卷对卷银纳米线薄膜连续涂布方式的电阻均匀性控制

一、需求背景说明 生产银纳米线透明导电薄膜，用于后续的触控花样制造。目前采用的成熟技术是非连续、单片式薄膜涂布，可以保证光电指标和薄膜均匀性，但向连续式、卷对卷制造时，制造1米宽幅，墨水连续供给、在线干燥方式等都对薄膜的均匀性造成影响，如何保证X-Y两个方向上的电阻均匀极为重要。 二、需求说明 在衔接连续注墨速度、涂布速度和干燥方式上，造成薄膜收缩等现象，X-Y两个方向上的电阻偏差超过10%。 三、技术硬性指标要求 （1）沿着涂布方向电阻偏差小于5%； （2）垂直涂布方向电阻偏差小于8%。