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超快激光无掩模超衍射纳米光刻技术与装备

超衍射纳米光刻 / 电子信息

其他电子信息

预算：面议广东中山市截止时间：9393-69-61 需求方：中***********

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需求描述

针对芯片研发与制造对光刻技术的需求，研究超快激光超衍射纳米光刻原理与关键核心技术，突破传统光学衍射极限限制，建立激光多模式跨尺度微纳结构光刻新方法，实现高精度、跨尺度、大面积、低成本、高效率微纳结构光刻；研制激光超衍射纳米光刻装备中光学系统、光刻物镜等关键部件与分系统，发展二维光栅纳米精度光刻定位技术，研发精密定位工作台自动控制技术，进行光刻装备的技术集成与工程化研发，提高其稳定性、可靠性与一致性，研制具备大面积、高分辨力、高效率的跨尺度微纳结构无掩模光刻能力的光刻装备

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