专利基本信息
| 专利名称 | 一种常压化学气相沉积镀膜反应器 | ||
|---|---|---|---|
| 专利状态 | 专利权维持 | 专利号(申请号) | 2014107186904 |
| 专利申请日期 | 2014-12-02 | 专利类型 | 发明专利 |
| 申请公布号 | 201410718690 | 申请公布日 | 2014-12-02 |
| 授权公告号 | - | 授权公告日 | - |
| 发明人 | - | ||
| 专利权人 | 浙江大学 | ||
| 专利摘要 | 本发明公开了一种常压化学气相沉积镀膜反应器。该镀膜反应器特点为:反应器内部设计有强化对流和束流结构的混气室;反应器底部结构采用具有良好热导率的耐高温钢板;混气室出口采用狭缝结构,作为反应器镀膜气体喷嘴;反应器喷嘴处安装具有倒角结构的石墨挡块;反应器进气腔与排气腔采用完全对称结构;反应器镀膜进气与排气方向可以互换。该常压化学气相沉积镀膜反应器通过强化前驱体气体对流传热,提高反应热效率,能够使镀膜沉积反应在相对较低的温度下进行,降低镀膜能耗,拓宽镀膜温度窗口。本发明的设计思路新颖,设备维护简单,投资小,成本低,适合工业化或实验室设备应用。 | ||
专利价值评估分析
专利价值评估分析
样例
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