专利基本信息
| 专利名称 | 一种碳纳米管、铜复合电磁屏蔽膜及其制备方法 | ||
|---|---|---|---|
| 专利状态 | 专利权维持 | 专利号(申请号) | 2015104916524 |
| 专利申请日期 | 2015-08-12 | 专利类型 | 发明专利 |
| 申请公布号 | 201510491652 | 申请公布日 | 2015-08-12 |
| 授权公告号 | - | 授权公告日 | - |
| 发明人 | - | ||
| 专利权人 | 湖南深泰虹科技有限公司 | ||
| 专利摘要 | 一种碳纳米管、铜复合电磁屏蔽膜及其制备方法,包括五层,中心层为铜箔,铜箔两面为碳纳米管膜,碳纳米管膜外面为树脂层,总厚度为7-14um。制备方法步骤如下:将溶解有二茂铁的正已烷溶液泵入反应炉的沸腾床上,反应炉内温度在1100-1200℃,二茂铁在高温的作用下分解出铁原子,正已烷在铁原子的催化和高温的作用下分解出碳原子,附着于铜箔的两面,然后在碳纳米管膜上覆盖树脂层,本发明保证了在较薄厚度情况下复合电磁屏蔽膜的机械性,能解决使用液晶聚酯薄膜制备时,绝缘层厚度无法做薄的问题;本发明由于采用了液晶聚酯,所以介电常数较低,结合碳纳米管高导热、高韧性、低密度的优点与金属材料密度高、易生产的性能。 | ||
专利价值评估分析
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样例
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