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专利基本信息
专利名称 一种沉积装置
专利状态 - 专利号(申请号) CN109881160B
专利申请日期 2019-03-08 专利类型 发明专利
申请公布号 2019101748027 申请公布日 2019-03-08
授权公告号 - 授权公告日 -
发明人 廖斌;欧阳晓平;罗军
专利权人 北京师范大学
专利摘要 本发明公开了一种低熔点以及活泼金属的膜层沉积装置,包括:真空系统、阴极弧头、强脉冲磁场、永磁体阳极筒、磁过滤管及聚焦线包。通过实施本发明,到达镀膜工件表面的离子方向性好,同时在改进的冷却阴极弧头基础之上能够沉积低熔点的金属,如Zn,Mg,Li等实现电弧镀膜;在真空的保护下也可实现活泼金属,如Na等的表面沉积,弥补了该类低熔点和活泼金属膜层沉积的技术空白。本发明磁过滤装置在核天体制靶,医药等方面有着广泛的应用前景。
专利价值评估分析
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