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近红外光增强的ZnO基晶体管型存储器及其制备方法

技术类型:发明专利

技术成熟度:研发

转让方式:技术转让、技术许可、技术入股

专利申请日:2017-06-30

专利所属地 :中国

专利号:CN201710527432.1

应用领域:其他电气机械及器材制造

技术领域:新材料

交易价格:面议专利价值评估

应用案例:否

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成果概况
简介

摘要: 本发明公开了近红外光增强的ZnO基晶体管型存储器及其制备方法。该存储器从上至下依次包括以下结构:源漏电极、半导体层、隧穿层、浮栅层、阻挡层、栅极和基底。特别地,半导体层由ZnO制成,而浮栅层由上转换荧光纳米颗粒制成。

本发明的工作原理是:上转换荧光纳米颗粒在近红外光的激发下发出紫外光,ZnO半导体吸收这些紫外光并产生载流子。在电场的作用下,这些载流子被捕获在浮栅层中。这一过程中,近红外光间接增加了可被捕获的载流子数目,从而有效增强了存储器的存储窗口,并实现了多比特存储。

此外,本发明利用价格低廉的ZnO作为存储器半导体层,显著降低了存储器的成本。与传统晶体管型存储器相比,本发明所述的存储器不仅性能明显提高,而且成本显著降低。

(此文字表达经过AI优化完善,查看原文请点击 原文)
专利基本信息
专利名称 近红外光增强的ZnO基晶体管型存储器及其制备方法
专利状态 - 专利号(申请号) CN201710527432.1
申请号 - 专利申请日期 2017-06-30
专利授权日期 2017-11-21 专利权届满日 -
专利所属地 中国 专利类型 发明专利
发明人 韩素婷;翟永彪;周晔
权利人 -
专利摘要 本发明公开了近红外光增强的ZnO基晶体管型存储器及其制备方法,从上至下依次包括:源漏电极、半导体层、隧穿层、浮栅层、阻挡层、栅极和基底;其中,所述半导体层由ZnO制成,所述浮栅层由上转换荧光纳米颗粒制成。本发明利用上转换荧光纳米颗粒在近红外光作用下发出紫外光,ZnO半导体吸收紫外光产生载流子,在电场作用下,产生的载流子被捕获在浮栅层中。在这个过程中,近红外光间接增加了可被捕获的载流子数目,有效增强了存储器存储窗口并且实现了多比特存储。同时,本发明利用价格低廉的ZnO作为存储器半导体层,显著降低了存储器价格。相比传统晶体管型存储器,本发明所述的存储器不仅性能可以明显提高,成本也显著降低。
成果评价分析
技术应用分析
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