二氟二氯甲烷氟化合成四氟甲烷催化剂

四氟化碳（CF4）是目前微电子工业中用量最大的等离子体刻蚀气体，广泛用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃等薄膜材料的蚀刻。由于其化学性质非常稳定，CF4还可用于金属冶炼和塑料行业。因此，对CF4的需求量将会明显增加。

由于CCl4转化成CFC-12已有成熟的生产工艺，因此如果能有效地将CFC-12转换为CF4，不但能解决CCl4的出路，同时还能得到高附加值的CF4，具有非常重大的现实意义。

本项目已经申请了三项国家发明专利：

1. 用于气相氟化生产四氟甲烷的催化剂及制备方法，专利申请号：200810061344.8；
2. 一种气相氟化生产四氟甲烷的催化剂及其制备方法，专利申请号：200810120204.3；
3. 一种气相催化生产四氟甲烷的方法，专利申请号：200810121732.0。

催化剂性能为：反应稳定400 oC；CFC-12转化率>95%，CF4选择性>30%，主要副产物CFC-13可以循环使用。

四氟化碳（CF4）是目前微电子工业中用量最大的等离子体刻蚀气体，广泛用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃等薄膜材料的蚀刻。由于其化学性质非常稳定，CF4还可用于金属冶炼和塑料行业。因此，对CF4的需求量将会明显增加。

由于CCl4转化成CFC-12已有成熟的生产工艺，因此如果能有效地将CFC-12转换为CF4，不但能解决CCl4的出路，同时还能得到高附加值的CF4，具有非常重大的现实意义。

本项目已经申请了三项国家发明专利（1. 用于气相氟化生产四氟甲烷的催化剂及制备方法，专利申请号：200810061344.8； 2.一种气相氟化生产四氟甲烷的催化剂及其制备方法，专利申请号：200810120204.3； 3. 一种气相催化生产四氟甲烷的方法，专利申请号：200810121732.0）。

催化剂性能为：反应稳定400 oC；CFC-12转化率》95%，CF4选择性》30%，主要副产物CFC-13可以循环使用。