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基于复合介质栅MOSFET的双晶体管光敏探测器及其信号读取办法

技术类型:发明专利

技术成熟度:研发

转让方式:技术转让、技术许可、技术入股

专利申请日:2012-11-07

专利所属地 :中国

专利号:CN201210442007.X

应用领域:其他电气机械及器材制造

技术领域:新材料

交易价格:面议专利价值评估

应用案例:否

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成果概况
简介

基于复合介质栅MOSFET的双晶体管光敏探测器,每个单元探测器都是由两个晶体管构成,利用两个晶体管分别实现感光和读取功能,即感光晶体管和读取晶体管:

两个晶体管都是形成在复合介质栅MOSFET基底P型半导体材料上方。

两个晶体管通过浅槽STI隔离隔开。

基底P型半导体材料正上方分别设有底层和顶层二层绝缘介质材料和控制栅极。

二层绝缘介质材料之间设有光电子存储层。

读取晶体管设有源漏极,用以读取信号。

两个晶体管之间通过光电子存储层相连,使得读取晶体管能够读到感光晶体管通过感光存储到光电子存储层的光电子。

(此文字表达经过AI优化完善,查看原文请点击 原文)
专利基本信息
专利名称 基于复合介质栅MOSFET的双晶体管光敏探测器及其信号读取办法
专利状态 - 专利号(申请号) CN201210442007.X
申请号 - 专利申请日期 2012-11-07
专利授权日期 2013-02-20 专利权届满日 -
专利所属地 中国 专利类型 发明专利
发明人 闫锋;马浩文;沈忱;卜晓峰;吴福伟;夏好广;张佳辰
权利人 -
专利摘要 基于复合介质栅MOSFET的双晶体管光敏探测器,每个单元探测器都是由两个晶体管构成,利用两个晶体管分别实现感光和读取功能即感光晶体管和读取晶体管:两个晶体管都是形成在复合介质栅MOSFET基底P型半导体材料(1)上方,两个晶体管通过浅槽STI隔离隔开,基底P型半导体材料正上方分别设有底层和顶层二层绝缘介质材料和控制栅极(2),二层绝缘介质材料之间设有光电子存储层(4),读取晶体管设有源漏极,用以读取信号;两个晶体管之间通过光电子存储层相连,使得读取晶体管能够读到感光晶体管通过感光存储到光电子存储层的光电子。
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