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一种铅镓锗硫晶体,其制备方法及应用

技术类型:发明专利

技术成熟度:研发

转让方式:技术转让、技术许可、技术入股

专利申请日:2017-06-01

专利所属地 :中国

专利号:CN201710404219.1

应用领域:专用化学产品制造

技术领域:新材料

交易价格:面议专利价值评估

应用案例:否

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成果概况
简介

摘要:

本申请涉及无机非线性光学材料领域,具体讲,涉及一种铅镓锗硫晶体,其制备方法及应用。

本申请的铅镓锗硫晶体的化学式为PbGa2GeS6,属正交晶系,空间群Fdd2,单胞参数为α=90°,β=90°,γ=90°,Z=16。

本申请的晶体具有优良的非线性光学性能,其粉末倍频强度和激光损伤阈值分别为AgGaS2的0.5倍和5倍。

(此文字表达经过AI优化完善,查看原文请点击 原文)
专利基本信息
专利名称 一种铅镓锗硫晶体,其制备方法及应用
专利状态 - 专利号(申请号) CN201710404219.1
申请号 - 专利申请日期 2017-06-01
专利授权日期 2017-11-10 专利权届满日 -
专利所属地 中国 专利类型 发明专利
发明人 黄一枝;张浩;程文旦;柴国良
权利人 -
专利摘要 本申请涉及无机非线性光学材料领域,具体讲,涉及一种铅镓锗硫晶体,其制备方法及应用。本申请的铅镓锗硫晶体的化学式为PbGa2GeS6,属正交晶系,空间群Fdd2,单胞参数为:α=90°,β=90°,γ=90°,Z=16。本申请的晶体具有优良的非线性光学性能,其粉末倍频强度和激光损伤阈值分别为AgGaS2的0.5倍和5倍。
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