本发明涉及一种用于制备埋入式薄膜电阻的活化剂、埋入式薄膜电阻的制备方法及埋入式薄膜电阻。
该用于制备埋入式薄膜电阻的活化剂包括以下成分:水、硫酸锌、DL-苹果酸钠和锌粉。具体浓度如下:硫酸锌的浓度为20~200g/L、DL-苹果酸钠的浓度为10~50g/L、锌粉的浓度为5~30g/L。值得注意的是,该活化剂不含有氯和钯。
经实验证明,采用该活化剂对衬底进行活化后,能够在较低温度下在衬底上化学镀制镍磷薄膜。这一过程具有以下优点:能耗较低,且不在化学镀液中引入氯,从而保证了镀液的稳定性。
使用上述活化剂进行活化,有利于降低埋入式薄膜电阻的制备成本。同时,由于保证了镀液的稳定性,有利于保证镍磷薄膜的质量。因此,埋入式薄膜电阻具有较好的性能。
| 专利名称 | 用于制备埋入式薄膜电阻的活化剂、埋入式薄膜电阻的制备方法及埋入式薄膜电阻 | ||
|---|---|---|---|
| 专利状态 | - | 专利号(申请号) | CN201310398877.6 |
| 申请号 | - | 专利申请日期 | 2013-09-04 |
| 专利授权日期 | 2014-01-01 | 专利权届满日 | - |
| 专利所属地 | 中国 | 专利类型 | 发明专利 |
| 发明人 | 孙蓉;苏星松;符显珠;郭慧子 | ||
| 权利人 | - | ||
| 专利摘要 | 本发明涉及一种用于制备埋入式薄膜电阻的活化剂、埋入式薄膜电阻的制备方法及埋入式薄膜电阻。该用于制备埋入式薄膜电阻的活化剂包括水、硫酸锌、DL-苹果酸钠和锌粉,其中,所述硫酸锌的浓度为20~200g/L、所述DL-苹果酸钠的浓度为10~50g/L、所述锌粉的浓度为5~30g/L。该活化剂不含有氯和钯。经实验证明,采用该活化剂对衬底进行活化后,能够在较低温度下在衬底上化学镀制镍磷薄膜,能耗较低,且不在化学镀液中引入氯,保证了镀液的稳定性。使用上述活化剂进行活化,有利于降低埋入式薄膜电阻的制备成本,并由于保证了镀液的稳定性,有利于保证镍磷薄膜的质量,从而保证埋入式薄膜电阻具有较好的性能。 | ||