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用于制备埋入式薄膜电阻的活化剂、埋入式薄膜电阻的制备方法及埋入式薄膜电阻

技术类型:发明专利

技术成熟度:研发

转让方式:技术转让、技术许可、技术入股

专利申请日:2013-09-04

专利所属地 :中国

专利号:CN201310398877.6

应用领域:化学原料和化学制品制造业

技术领域:新材料

交易价格:面议专利价值评估

应用案例:否

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成果概况
简介

本发明涉及一种用于制备埋入式薄膜电阻的活化剂、埋入式薄膜电阻的制备方法及埋入式薄膜电阻。

该用于制备埋入式薄膜电阻的活化剂包括以下成分:水、硫酸锌、DL-苹果酸钠和锌粉。具体浓度如下:硫酸锌的浓度为20~200g/L、DL-苹果酸钠的浓度为10~50g/L、锌粉的浓度为5~30g/L。值得注意的是,该活化剂不含有氯和钯。

经实验证明,采用该活化剂对衬底进行活化后,能够在较低温度下在衬底上化学镀制镍磷薄膜。这一过程具有以下优点:能耗较低,且不在化学镀液中引入氯,从而保证了镀液的稳定性。

使用上述活化剂进行活化,有利于降低埋入式薄膜电阻的制备成本。同时,由于保证了镀液的稳定性,有利于保证镍磷薄膜的质量。因此,埋入式薄膜电阻具有较好的性能。

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专利基本信息
专利名称 用于制备埋入式薄膜电阻的活化剂、埋入式薄膜电阻的制备方法及埋入式薄膜电阻
专利状态 - 专利号(申请号) CN201310398877.6
申请号 - 专利申请日期 2013-09-04
专利授权日期 2014-01-01 专利权届满日 -
专利所属地 中国 专利类型 发明专利
发明人 孙蓉;苏星松;符显珠;郭慧子
权利人 -
专利摘要 本发明涉及一种用于制备埋入式薄膜电阻的活化剂、埋入式薄膜电阻的制备方法及埋入式薄膜电阻。该用于制备埋入式薄膜电阻的活化剂包括水、硫酸锌、DL-苹果酸钠和锌粉,其中,所述硫酸锌的浓度为20~200g/L、所述DL-苹果酸钠的浓度为10~50g/L、所述锌粉的浓度为5~30g/L。该活化剂不含有氯和钯。经实验证明,采用该活化剂对衬底进行活化后,能够在较低温度下在衬底上化学镀制镍磷薄膜,能耗较低,且不在化学镀液中引入氯,保证了镀液的稳定性。使用上述活化剂进行活化,有利于降低埋入式薄膜电阻的制备成本,并由于保证了镀液的稳定性,有利于保证镍磷薄膜的质量,从而保证埋入式薄膜电阻具有较好的性能。
成果评价分析
技术应用分析
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