当前位置: 首页 > 科技成果列表 > 科技成果详细

一种位阻胺类光稳定剂选择性还原氧化石墨烯的方法

技术类型:发明专利

技术成熟度:研发

转让方式:技术转让、技术许可、技术入股

专利申请日:2011-07-08

专利所属地 :中国

专利号:CN201110191111.1

应用领域:合成材料制造

技术领域:新材料

交易价格:面议专利价值评估

应用案例:否

了解与分析本科技成果,可查看成果概况并使用以下技术转移数智化应用工具:
成果概况
简介

选择性还原氧化石墨烯材料及其制备方法 属纳米科技领域。

本发明具体涉及一种在紫外光辐照下, 位阻胺类光稳定剂催化法制备可溶性还原石墨烯材料的技术。

本发明提供的位阻胺类光稳定剂催化还原法具有: (1) 基团选择性高,能够选择去除羧基和羰基; (2) 产物溶解性好; (3) 位阻胺催化剂属于无毒、无金属; (4) 位阻胺添加剂具有分散石墨烯的能力,也可以去除; (5) 操作方法简单及绿色环保等特点。

该技术较好地弥补了传统氧化石墨烯材料还原方式剧毒、高能耗(高温)及还原过程不可控的不足, 有望成为石墨烯材料化学工业生产的重要步骤, 在石墨烯基光电材料、石墨烯基有机结构材料及有机光电功能器件中有着潜在应用, 特别是应用于石墨烯基光电材料。

(此文字表达经过AI优化完善,查看原文请点击 原文)
专利基本信息
专利名称 一种位阻胺类光稳定剂选择性还原氧化石墨烯的方法
专利状态 - 专利号(申请号) CN201110191111.1
申请号 - 专利申请日期 2011-07-08
专利授权日期 2012-01-25 专利权届满日 -
专利所属地 中国 专利类型 发明专利
发明人 黄维;解令海;赵飞;艾伟;刘举庆;仪明东;张广维
权利人 -
专利摘要 选择性还原氧化石墨烯材料及其制备方法属纳米科技领域,本发明具体涉及一种在紫外光辐照下,位阻胺类光稳定剂催化法制备可溶性还原石墨烯材料的技术。本发明提供的位阻胺类光稳定剂催化还原法具有:(1)基团选择性高,能够选择去除羧基和羰基;(2)产物溶解性好;(3)位阻胺催化剂属于无毒、无金属;(4)位阻胺添加剂具有分散石墨烯的能力,也可以去除;(5)操作方法简单及绿色环保等特点。该技术较好地弥补了传统氧化石墨烯材料还原方式剧毒,高能耗(高温)及还原过程不可控的不足,有望成为石墨烯材料化学工业生产的重要步骤,在石墨烯基光电材料、石墨烯基有机结构材料及有机光电功能器件中有着潜在应用,特别是应用于石墨烯基光电材料。
成果评价分析
技术应用分析
服务案例
Baidu
map