本发明公开了一种垂直型多电流通道SiC光导开关及其制作方法。首先,采用lift-off工艺将所需电极图形转移到SiC衬底一侧表面。接着,利用磁控溅射工艺在SiC衬底电极图形上依次制作Ti层和W层。然后,在W层上利用真空蒸发镀膜工艺依次制作Au层和NiCr层,从而完成接触电极的制作。
对制作完接触电极的SiC衬底进行去胶,使衬底形成多电流通道。采用多电流通道的方法来减小现有开关中出现的电流丝效应。电流丝效应是电流集中在局部区域,会使得该区域温度升高很多,从而导致开关热损坏,降低器件寿命。
多电流通道将电流分散在开关中,减少了热集中,增加了光导开关的寿命。通过在SiC光导开关上设置多电流通道,减小电流密度,从而提高开关耐压能力及可靠性。
| 专利名称 | 一种垂直型多电流通道SiC光导开关及其制作方法 | ||
|---|---|---|---|
| 专利状态 | - | 专利号(申请号) | CN201710547436.6 |
| 申请号 | - | 专利申请日期 | 2017-07-06 |
| 专利授权日期 | 2017-11-07 | 专利权届满日 | - |
| 专利所属地 | 中国 | 专利类型 | 发明专利 |
| 发明人 | 张景文;谢倩;陈旭东;翟文博;王明海;卜忍安;王宏兴;侯洵 | ||
| 权利人 | - | ||
| 专利摘要 | 本发明公开了一种垂直型多电流通道SiC光导开关及其制作方法,首先采用lift‑off工艺将所需电极图形转移到SiC衬底一侧表面,利用磁控溅射工艺在SiC衬底电极图形上依次制作Ti层和W层,然后在W层上利用真空蒸发镀膜工艺依次制作Au层和NiCr层,从而完成接触电极的制作,对制作完接触电极的SiC衬底进行去胶,使衬底形成多电流通道的,采用多电流通道的方法来减小现有开关中出现的电流丝效应,电流丝效应是电流集中在局部区域,会使得该区域温度升高很多,从而导致开关热损坏,降低器件寿命;多电流通道将电流分散在开关中,减少了热集中,增加了光导开光的寿命;通过在SiC光导开关上设置多电流通道,减小电流密度,从而提高开关耐压能力及可靠性。 | ||