本发明公开了一种Ta3N5薄膜的制备方法,采用金属Ta片先化学腐蚀再氧化氮化的方法制备Ta3N5薄膜。
本发明还公开了制备的Ta3N5薄膜的应用,将该Ta3N5薄膜作为光阳极用于太阳能分解水制氢。
本发明通过化学腐蚀的引入,一方面消除了金属Ta表面的富氧层,从而减少了最终制备的Ta3N5薄膜表面的载流子复合中心,减少了光生载流子表面复合;另一方面,腐蚀造成金属Ta表面粗糙度增加,从而增加了最终制备的Ta3N5薄膜的表面粗糙度和比表面积,增大了电解液和Ta3N5薄膜的接触面积。
本发明提高了Ta3N5薄膜的光吸收效率、光生载流子分离效率及载流子传输效率,Ta3N5光阳极的光电流及量子转化效率均有大幅提高。
| 专利名称 | 一种Ta3N5薄膜的制备方法及Ta3N5薄膜的应用 | ||
|---|---|---|---|
| 专利状态 | - | 专利号(申请号) | CN201710416513.4 |
| 申请号 | - | 专利申请日期 | 2017-06-06 |
| 专利授权日期 | 2017-10-20 | 专利权届满日 | - |
| 专利所属地 | 中国 | 专利类型 | 发明专利 |
| 发明人 | 李明雪;李艳;夏往所;韩奎;王洪涛 | ||
| 权利人 | - | ||
| 专利摘要 | 本发明公开了一种Ta3N5薄膜的制备方法,采用金属Ta片先化学腐蚀再氧化氮化的方法制备Ta3N5薄膜。本发明还公开了制备的Ta3N5薄膜的应用,将该Ta3N5薄膜作为光阳极用于太阳能分解水制氢。本发明通过化学腐蚀的引入一方面消除了金属Ta表面的富氧层,从而减少了最终制备的Ta3N5薄膜表面的载流子复合中心,减少了光生载流子表面复合;另一方面腐蚀造成金属Ta表面粗糙度增加,从而增加了最终制备的Ta3N5薄膜的表面粗糙度和比表面积,增大了电解液和Ta3N5薄膜的接触面积。本发明提高了Ta3N5薄膜的光吸收效率、光生载流子分离效率及载流子传输效率,Ta3N5光阳极的光电流及量子转化效率均有大幅提高。 | ||