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一种基于掺杂氧化钒薄膜的阻变存储器及其制备方法

技术类型:发明专利

技术成熟度:研发

转让方式:技术转让、技术许可、技术入股

专利申请日:2010-12-17

专利所属地 :中国

专利号:CN201010593299.8

应用领域:铁合金冶炼

技术领域:新材料

交易价格:面议专利价值评估

应用案例:否

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成果概况
简介

一种基于掺杂氧化钒薄膜的阻变存储器,包括以下结构: - 底电极 - 顶电极 - 电阻转变层(掺杂氧化钒薄膜)

其中,电阻转变层位于底电极和顶电极之间,由以下多层结构组成: - 第一层氧化钒薄膜 - 掺杂金属薄膜 - 第二层氧化钒薄膜

掺杂金属薄膜置于第一层氧化钒薄膜和第二层氧化钒薄膜之间,形成类似三明治的结构。

本发明的优点包括: - 能够制备出性能良好的以五氧化二钒为基础的氧化钒混合相多晶薄膜。 - 通过掺杂金属薄膜,氧化钒阻变材料在施加电压时,薄膜中以金属离子运动组合的方式形成导电通道。 - 大幅提升电阻转变的稳定性。 - 消除了Forming过程。

(此文字表达经过AI优化完善,查看原文请点击 原文)
专利基本信息
专利名称 一种基于掺杂氧化钒薄膜的阻变存储器及其制备方法
专利状态 - 专利号(申请号) CN201010593299.8
申请号 - 专利申请日期 2010-12-17
专利授权日期 2011-07-20 专利权届满日 -
专利所属地 中国 专利类型 发明专利
发明人 张楷亮;韦晓莹;王麒;赵金石
权利人 -
专利摘要 一种基于掺杂氧化钒薄膜的阻变存储器,包括底电极、顶电极和电阻转变层,电阻转变层为掺杂氧化钒薄膜,掺杂氧化钒薄膜位于底电极和顶电极之间,掺杂氧化钒薄膜包括第一层氧化钒薄膜、掺杂金属薄膜和第二层氧化钒薄膜,掺杂金属薄膜设置于第一层氧化钒薄膜和第二层氧化钒薄膜之间形成三明治结构。本发明的优点是:通过本发明能够制备出性能良好的以五氧化二钒为基础的氧化钒混合相多晶薄膜。通过掺杂金属薄膜,使得氧化钒阻变材料在施加电压的情况下薄膜中以金属离子运动组合的方式形成导电通道,大幅提升电阻转变的稳定性,并且消除了Forming过程。
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