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一种载流子存储增强的绝缘栅双极型晶体管

技术类型:发明专利

技术成熟度:研发

转让方式:技术转让、技术许可、技术入股

专利申请日:2017-06-01

专利所属地 :中国

专利号:CN201710404322.6

应用领域:专用化学产品制造

技术领域:新材料

交易价格:面议专利价值评估

应用案例:否

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成果概况
简介

本发明提供了一种绝缘栅双极型晶体管器件。

发射区采用了具有比其它半导体区更高禁带宽度的半导体材料。

基区与发射区形成正向导通电压较高的异质PN结。

基区与发射极之间通过一个二极管或两个同向串联的二极管或两个以上同向串联的二极管相连。

基区与发射极之间的二极管通路的正向导通电压小于基区与发射区形成的异质PN结的正向导通电压。

在正向导通时,基区与发射极之间的二极管导通,基区的电位抬高,从而使漂移区的少数载流子在靠近基区附近的存储效果得到增强。

与传统绝缘栅双极型晶体管器件相比,本发明的绝缘栅双极型晶体管器件可以获得更低的导通压降。

(此文字表达经过AI优化完善,查看原文请点击 原文)
专利基本信息
专利名称 一种载流子存储增强的绝缘栅双极型晶体管
专利状态 - 专利号(申请号) CN201710404322.6
申请号 - 专利申请日期 2017-06-01
专利授权日期 2017-09-05 专利权届满日 -
专利所属地 中国 专利类型 发明专利
发明人 黄铭敏
权利人 -
专利摘要 本发明提供了一种绝缘栅双极型晶体管器件,发射区采用了具有比其它半导体区更高禁带宽度的半导体材料,基区与发射区形成正向导通电压较高的异质PN结,基区与发射极之间通过一个二极管或两个同向串联的二极管或两个以上同向串联的二极管相连,基区与发射极之间的二极管通路的正向导通电压小于基区与发射区形成的异质PN结的正向导通电压。在正向导通时,基区与发射极之间的二极管导通,基区的电位抬高,从而使漂移区的少数载流子在靠近基区附近的存储效果得到增强。与传统绝缘栅双极型晶体管器件相比,本发明的绝缘栅双极型晶体管器件可以获得更低的导通压降。
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