本发明涉及一种新型含偶氮苯的末端炔类化合物,该化合物是一种从未见过报道的新化合物,其分子中含有末端乙炔基和偶氮苯基团。基本结构式如下(上),化学结构式中R为正丁基、正庚基。该类化合物的制备方法是通过烷氧基取代的偶氮苯甲酰氯与1-炔丙醇缩合而成,收率高。
本发明不仅涉及新的化合物,还涉及化合物在激光防护材料、非线性光学材料等领域的用途。
合作方式:许可、转让或面议。
| 专利名称 | 含有偶氮苯衍生物的端炔化合物及其衍生物、用途 | ||
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| 专利状态 | - | 专利号(申请号) | 200510038188.X |
| 申请号 | - | 专利申请日期 | 2005-01-18 |
| 专利授权日期 | - | 专利权届满日 | - |
| 专利所属地 | 中国 | 专利类型 | 非专利 |
| 发明人 | 徐洪耀;李村;光善仪;尹守春 | ||
| 权利人 | - | ||
| 专利摘要 | 本发明涉及一种含有偶氮苯衍生物的末端炔类化合物及其衍生物、用途,其分子中含有末端乙炔基和偶氮苯基团,基本结构式如上,化学结构式中R为正丁基、正庚基。该类化合物的制备方法是通过十二烷氧基取代的偶氮苯甲酰氯与不同链长的1-炔醇缩合而成,收率高。本发明涉及新的化合物,并涉及化合物在激光防护材料、非线性光学材料等领域方面的用途。 | ||