专利技术名称: 二硫化钼基润滑耐磨复合薄膜的制备方法
专利技术简介: 一种固体润滑技术领域的二硫化钼基润滑耐磨复合薄膜的制备方法,具体包括以下步骤: 1. 将基片进行抛光处理。 2. 对抛光后的基片进行超声清洗。 3. 将清洗干净的基片吹干。 4. 将处理好的基片置于溅射室中。 5. 在溅射室中进行中间层的溅射和复合层的反应磁控溅射。 6. 待溅射室自然冷却至室温。
通过上述步骤,可得到反应磁控溅射制备的新型MoS2基润滑耐磨复合薄膜。该薄膜具有良好的摩擦性能,其耐磨性能和使用寿命有了极大的提高,从而拓展了MoS2在大气环境下的应用范围。
| 专利名称 | 二硫化钼基润滑耐磨复合薄膜的制备方法 | ||
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| 专利状态 | - | 专利号(申请号) | 201010196546.0 |
| 申请号 | - | 专利申请日期 | 2010-06-10 |
| 专利授权日期 | - | 专利权届满日 | - |
| 专利所属地 | 中国 | 专利类型 | 发明专利 |
| 发明人 | 李倩倩;尹桂林;郑慈航;王永强;余震;何丹农 | ||
| 权利人 | - | ||
| 专利摘要 | 一种固体润滑技术领域的二硫化钼基润滑耐磨复合薄膜的制备方法,通过将基片抛光后超声清洗并吹干,然后置于溅射室中进行中间层溅射和复合层反应磁控溅射,待溅射室自然冷却至室温,得到反应磁控溅射制备的新型MoS2基润滑耐磨复合薄膜。本发明制备得到良好摩擦性能的薄膜,其耐磨性能和使用寿命有了极大的提高,拓展了MoS2在大气环境下的应用范围。 | ||