摘要: 一种热熔反应制备发光材料8-羟基喹啉铝的方法。以8-羟基喹啉和无水氯化铝为反应原料,热熔法直接制备纯8-羟基喹啉铝。具体通过以下步骤来实现: 1. 按照摩尔比为8-羟基喹啉:氯化铝=3:1,将反应原料8-羟基喹啉和氯化铝交替加入到反应器中。 2. 升温至80℃~100℃,反应2h~4h。 反应完毕后,冷却至室温,出料,获得纯度为97%~99%的8-羟基喹啉铝。本发明具有以下优点: - 流程短 - 产率高 - 无废液排放 - 生产成本低 - 环境友好
| 专利名称 | 热熔反应制备发光材料8-羟基喹啉铝的方法 | ||
|---|---|---|---|
| 专利状态 | - | 专利号(申请号) | CN201410457144.X |
| 申请号 | - | 专利申请日期 | 2014-09-10 |
| 专利授权日期 | 2014-12-10 | 专利权届满日 | - |
| 专利所属地 | 中国 | 专利类型 | 发明专利 |
| 发明人 | 钟学明 | ||
| 权利人 | - | ||
| 专利摘要 | 一种热熔反应制备发光材料8-羟基喹啉铝的方法。以8-羟基喹啉和无水氯化铝为反应原料,热熔法直接制备纯8-羟基喹啉铝,具体通过以下步骤来实现:按照摩尔比为8-羟基喹啉:氯化铝=3:1,将反应原料8-羟基喹啉和氯化铝交替加入到反应器中,升温至80℃~100℃,反应2h~4h。反应完毕,冷却至室温,出料,获得纯度为97%~99%的8-羟基喹啉铝。本发明具有流程短、产率高、无废液排放、生产成本低、环境友好等优点。 | ||