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光敏复合介质栅MOSFET探测器的信号读出放大方法

技术类型:发明专利

技术成熟度:研发

转让方式:技术转让、技术许可、技术入股

专利申请日:2009-11-18

专利所属地 :中国

专利号:CN200910234266.1

应用领域:广播、电视、电影和录音制作业

技术领域:新材料

交易价格:面议专利价值评估

应用案例:否

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成果概况
简介

光敏复合介质栅MOSFET探测器信号的读出放大方法如下:

在基底P型半导体材料上方的两侧设有N型半导体区,构成源极和漏极。基底正上方分别设有底层和顶层绝缘介质材料和栅极。探测器内设有光电子存储层。

光电子读出放大: 1. 将探测器的源极和衬底接地。 2. 漏极接合适的正电压,约为0.1V。 3. 通过调节栅极电压,约为1~3V,使MOSFET探测器工作在线性区。 4. 通过直接测量输出漏极电流,得到漏极电流变化量与搜集到的光电子数目的关系式。

复位: 1. 在探测器栅极上加负偏压VG。 2. 将衬底接地。 3. 当负偏压足够高时,光电子存储层中储存的光电子通过隧穿被扫至P型半导体衬底中。 4. 克服因电子迁移率的漂移而带来的误差。

(此文字表达经过AI优化完善,查看原文请点击 原文)
专利基本信息
专利名称 光敏复合介质栅MOSFET探测器的信号读出放大方法
专利状态 - 专利号(申请号) CN200910234266.1
申请号 - 专利申请日期 2009-11-18
专利授权日期 2010-06-02 专利权届满日 -
专利所属地 中国 专利类型 发明专利
发明人 闫锋;徐跃;张荣;施毅
权利人 -
专利摘要 光敏复合介质栅MOSFET探测器信号的读出放大方法,在基底P型半导体材料上方的两侧设有N型半导体区构成源极和漏极,基底正上方分别设有底层和顶层绝缘介质材料和栅极,设有光电子存储层的光敏复合介质栅MOSFET探测器;光电子读出放大:将探测器的源极和衬底接地,漏极接合适正电压约0.1V,通过调节栅极电压约1~3V使MOSFET探测器工作在线性区;通过对输出漏极电流的直接测量,得到漏极的电流变化量与搜集到的光电子数目的关系式;复位:在探测器栅极上加负偏压VG,衬底接地;当负偏压足够高,光电子存储层中储存的光电子通过隧穿被扫P型半导体衬底中;克服因电子迁移率的漂移而带来的误差。
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