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| 专利名称 | 一种高折光材料及其合成方法 | ||
|---|---|---|---|
| 专利状态 | - | 专利号(申请号) | CN201710263305.5 |
| 申请号 | - | 专利申请日期 | 2017-04-20 |
| 专利授权日期 | 2017-10-03 | 专利权届满日 | - |
| 专利所属地 | 中国 | 专利类型 | 发明专利 |
| 发明人 | 李泽;田堃;杨雄发;郝超伟;来国桥;蒋剑雄;邱化玉 | ||
| 权利人 | - | ||
| 专利摘要 | 本发明涉及高折光材料技术领域,为解决基于聚倍半硅氧烷开发高折光材料时存在的易交联、易升华、不易溶、不易加工等问题,本发明提出了一种高折光材料及其合成方法,所述高折光材料为具有结构式如(I)所示的聚合物1,或者具有结构式如(II)所示的聚合物2,或者具有结构式如(III)所示的聚合物3,这种高折光材料具有优异热稳定性,并且不易升华、易溶于常见溶剂、易加工,可进一步进行化学修饰。 | ||