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一种三相溶剂气助萃取方法

技术类型:发明专利

技术成熟度:研发

转让方式:技术转让、技术许可、技术入股

专利申请日:2010-06-18

专利所属地 :中国

专利号:CN201010209891.3

应用领域:烘炉、风机、包装等设备制造

技术领域:新材料

交易价格:面议专利价值评估

应用案例:否

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成果概况
简介

摘要:

本发明涉及一种三相溶剂气助萃取方法。该方法是在一种三相溶剂气助萃取设备上进行的。该设备包括:

  • 底部带有气体入口的气浮柱;
  • 气浮柱由下至上依次包括:
    • 填充有含有待分离的疏水性有机物或离子型物质的盐水相的下相传质区;
    • 填充有聚合物相的中相传质区;
    • 填充有有机溶剂相的上相传质区;
  • 所述下相传质区还包括位于下相传质区底部的气体分布器。

操作方法如下:

  • 将气体从气体入口通入气浮柱中;
  • 产生的气泡携带着盐水相中的待分离的疏水性有机物或离子型物质向上传递;
  • 下层盐水相中的疏水性有机物或离子型物质被萃取到中相传质区中填充的聚合物相中和上相传质区中填充的有机溶剂相中;
  • 完成三相溶剂气助萃取过程。

采用本发明的方法,能够实现多组分目标物质的一步分离。

(此文字表达经过AI优化完善,查看原文请点击 原文)
专利基本信息
专利名称 一种三相溶剂气助萃取方法
专利状态 - 专利号(申请号) CN201010209891.3
申请号 - 专利申请日期 2010-06-18
专利授权日期 2011-12-21 专利权届满日 -
专利所属地 中国 专利类型 发明专利
发明人 刘会洲;于品华;赵君梅;黄昆;安振涛
权利人 -
专利摘要 本发明涉及三相溶剂气助萃取方法。该方法是在使用一种三相溶剂气助萃取设备上进行的,所述设备包括底部带有气体入口的气浮柱,气浮柱由下至上依次包括填充有含有待分离的疏水性有机物或离子型物质的盐水相的下相传质区、填充有聚合物相的中相传质区和填充有有机溶剂相的上相传质区,所述下相传质区还包括位于下相传质区底部的气体分布器;将气体从气体入口通入气浮柱中,产生的气泡携带着所述盐水相中的待分离的疏水性有机物或离子型物质向上传递,下层盐水相中的疏水性有机物或离子型物质被萃取到中相传质区中填充的聚合物相中和上相传质区中填充的有机溶剂相中,完成三相溶剂气助萃取过程。采用本发明的方法能够实现多组分目标物质的一步分离。
成果评价分析
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