当前位置: 首页 > 科技成果列表 > 科技成果详细

一种等离子激元增益波导

技术类型:发明专利

技术成熟度:研发

转让方式:技术转让

专利申请日:2012-03-09

专利所属地 :中国

专利号:201210061093.X

应用领域:电子元件及电子专用材料制造

技术领域:-

交易价格:面议专利价值评估

应用案例:否

了解与分析本科技成果,可查看成果概况并使用以下技术转移数智化应用工具:
成果概况
简介

本发明涉及光波导技术领域。

本发明提供一种等离子激元增益波导,其结构包括以下部分:

  1. 基底层
  2. 介质层:置于基底层的裸露表面
  3. 隔离层:介于介质层和增益波导之间
  4. 增益波导:靠近介质层的一端为楔形,且尖端朝向介质层;其折射率大于隔离层的折射率

本发明的优点在于:

  • 在增益波导靠近介质层一端设计为楔形结构,
  • 固定楔形结构的顶端与金属的距离,
  • 保留低折射率的隔离层,
  • 通过调节楔形顶角的角度,
  • 改善增益波导与金属的等离子激元耦合。
(此文字表达经过AI优化完善,查看原文请点击 原文)
专利基本信息
专利名称 一种等离子激元增益波导
专利状态 - 专利号(申请号) 201210061093.X
申请号 - 专利申请日期 2012-03-09
专利授权日期 - 专利权届满日 -
专利所属地 中国 专利类型 发明专利
发明人 黄增立;王建峰;刘争晖;徐科;杨辉
权利人 -
专利摘要 本发明涉及光波导技术领域。本发明提供一种等离子激元增益波导,包括基底层、介质层、隔离层和增益波导,所述介质层置于基底层的裸露表面,所述隔离层介于所述介质层和所述增益波导之间,所述增益波导靠近所述介质层的一端为楔形且尖端朝向所述介质层,所述增益波导的折射率大于所述隔离层的折射率。本发明优点在于,在增益波导靠近介质层一端为楔形结构,固定楔形结构的顶端和金属的距离,保留低折射率的隔离层,可以通过调节楔形顶角的角度改善增益波导和金属的等离子激元耦合。
成果评价分析
技术应用分析
服务案例
Baidu
map