一种用于去除硅片表面污斑的清洗剂

一种用于去除硅片表面污斑的清洗剂

本发明公开了一种用于去除硅片表面污斑的清洗剂，其组成如下：由聚乙烯醇衍生物（含量为20～40%）、辛基苯烷基聚氧乙烯磷酸酯（含量为30～50%）、OP（含量为1～3%）、十二烷基硫基乙酸钠（含量为15～30%）和水（含量为2～10%）组成。

本发明制备工艺简单，成本低。适用于单晶硅、多晶硅表面污斑的清洗，具有以下优点：

1. 操作方便；
2. 去污速度快；
3. 清洗效果好；
4. 具有防止单晶硅、多晶硅表面形成污斑的功效。

一种用于去除硅片表面污斑的清洗剂

本发明公开了一种用于去除硅片表面污斑的清洗剂，由聚乙烯醇衍生物为20～40%，辛基苯烷基聚氧乙烯磷酸酯为30～50%，OP为1～3%，十二烷基硫基乙酸钠为15～30%，水为2～10%组成。本发明制备工艺简单，成本低；用于单晶硅、多晶硅表面污斑的清洗，操作方便，去污快，效果好，同时还具有防止单晶硅、多晶硅表面形成污斑的功效。