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成果概况
简介
核-壳结构的催化材料磁性颗粒,包括核-Y3-xYbxSbO7和磁性颗粒核-Y3-xGaxSbO7(0.5≤x≤1)的制备方法如下:
靶材制备:
- 采用固相烧结的方法制备Y3-xYbxSbO7和Y3-xGaxSbO7(0.5≤x≤1)靶材。
选取衬底:
- 选用铁磁性颗粒γ-Fe2O3、顺磁性颗粒SiO2或反铁磁性颗粒MnO作为衬底。
脉冲激光溅射沉积:
- 采用脉冲激光溅射沉积方法。
- 激光主波长为248nm。
- 激光功率密度为2~3J/cm²。
- 以氮气为保护气氛。
- 在γ-Fe2O3、SiO2或MnO衬底上沉积厚度不同的膜。
晶化处理:
- 将上述膜分别于氮气或在氩气中,在1340±10℃的温度下处理60±10分钟。
- 使之晶化,得到所需的磁性复合催化材料。
制备过程包括但不限于以下步骤: - 制备Y3-xYbxSbO7与Y3-xGaxSbO7。
核-壳结构的催化材料磁性颗粒核-Y3-xYbxSbO7和磁性颗粒核-Y3-xGaxSbO7(0.5≤x≤1)的制备方法,采用脉冲激光溅射沉积的方法:a.靶材制备:采用固相烧结的方法制备Y3-xYbxSbO7和Y3-xGaxSbO7(0.5≤x≤1)靶材;b.选取衬底:选用铁磁性颗粒γ-Fe2O3、顺磁性颗粒SiO2或反铁磁性颗粒MnO作为衬底;c.采用脉冲激光溅射沉积,激光主波长为248nm,激光功率密度为2~3J/cm2,以氮气为保护气氛,在γ-Fe2O3、SiO2或MnO衬底上沉积厚度不同的膜,将上述膜分别于氮气或在氩气中在1340±10℃和1340±10℃温度下处理60±10min,使之晶化而得到所需的磁性复合催化材料,包括制备Y3-xYbxSbO7与Y3-xGaxSbO7。
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原文)
专利基本信息
| 专利名称 |
核-壳结构的钇锑基复合磁性颗粒光催化剂制备方法 |
| 专利状态 |
- |
专利号(申请号) |
CN201010195782.0 |
| 申请号 |
- |
专利申请日期 |
2010-06-09 |
| 专利授权日期 |
2010-10-06 |
专利权届满日 |
- |
| 专利所属地 |
中国 |
专利类型 |
发明专利 |
| 发明人 |
栾景飞;马坤;张玲燕;胡知田 |
| 权利人 |
- |
| 专利摘要 |
核-壳结构的催化材料磁性颗粒核-Y3-xYbxSbO7和磁性颗粒核-Y3-xGaxSbO7(0.5≤x≤1)的制备方法,采用脉冲激光溅射沉积的方法:a.靶材制备:采用固相烧结的方法制备Y3-xYbxSbO7和Y3-xGaxSbO7(0.5≤x≤1)靶材;b.选取衬底:选用铁磁性颗粒γ-Fe2O3、顺磁性颗粒SiO2或反铁磁性颗粒MnO作为衬底;c.采用脉冲激光溅射沉积,激光主波长为248nm,激光功率密度为2~3J/cm2,以氮气为保护气氛,在γ-Fe2O3、SiO2或MnO衬底上沉积厚度不同的膜,将上述膜分别于氮气或在氩气中在1340±10℃和1340±10℃温度下处理60±10min,使之晶化而得到所需的磁性复合催化材料,包括制备Y3-xYbxSbO7与Y3-xGaxSbO7。 |