自洁净结构及其制造方法

自洁净结构及其制造方法

成果简介： 本发明属于材料加工技术领域，提供了一种结构简单、制造方便的自洁净结构及其在基材表面的制造方法。该自洁净结构包括以下要素： - 基材 - 基材上形成有图形化的结构层 - 图形化的结构层上包覆一层疏水涂层

具体来说，图形化的结构层为形成于基材表面上的凸起矩阵，其凸起的高度大于等于500nm。疏水涂层的厚度小于等于100nm。基材可以是玻璃基材、陶瓷基材、金属基材、塑料基材、釉面基材或搪瓷基材。

本发明通过刻蚀等工艺在基材表面形成一层纳米级或微米级的图形化结构层，然后在图形化的结构层上包覆一层疏水涂层，以此制备出自洁净性能更佳的自洁净结构。基材表面的图形化结构层与基材为一体式结构，不会脱落，有效地保证了产品的质量和寿命。此外，该图形化的结构层上包覆的疏水涂层，增加了本发明自洁净结构的自洁净效果。

应用范围： 本技术可用于在玻璃、陶瓷、金属、塑料基材或釉面、搪瓷等基材的表面构造洁净效果好、耐磨损的自洁净结构。

合作方式： 技术转让、技术开发、技术服务。

　自洁净结构及其制造方法。

成果简介：

本发明属于材料加工技术领域，提供了一种结构简单、制造方便的自洁净结构及其在基材表面的制造方法。该自洁净结构包括基材，基材上形成有图形化的结构层，图形化的结构层上包覆一层疏水涂层；图形化的结构层为形成于基材表面上的凸起矩阵；所述凸起的高度大于等于500nm ；疏水涂层的厚度小于等于100nm ；基材为玻璃基材、陶瓷基材、金属基材、塑料基材、釉面基材或搪瓷基材。

本发明通过刻蚀等工艺在基材表面形成一层纳米级或微米级的图形化的结构层，然后在图形化的结构层上包覆一层疏水涂层；以此制备出自洁净性能更佳的自洁净结构；基材表面的图形化的结构层与基材为一体式结构，不会脱落，有效的保证了产品的质量和寿命，该图形化的结构层上包覆一层疏水涂层，增加了本发明自洁净结构的自洁净效果。

应用范围：本技术可用于在玻璃、陶瓷、金属、塑料基材或釉面、搪瓷等基材的表面构造洁净效果好，耐磨损的自洁净结构。

合作方式：技术转让、技术开发、技术服务。