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一种二氧化锰树枝状纳米阵列电极材料及制备方法

技术类型:发明专利

技术成熟度:研发

转让方式:技术转让、技术许可、技术入股

专利申请日:2015-01-21

专利所属地 :中国

专利号:CN201510030906.2

应用领域:专用化学产品制造

技术领域:新材料

交易价格:面议专利价值评估

应用案例:否

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成果概况
简介

摘要:

本发明提供了一种二氧化锰树枝状纳米阵列电极材料及制备方法。具体而言,每个树枝状二氧化锰阵列单元在单晶二氧化锰方形纳米管主干的四个侧棱上生长有四列单晶二氧化锰方形纳米管枝干。枝干轴向与主干轴向之间的夹角范围为57°~62°。

制备方法采用两步水热法。第一步水热法中,使用单抛硅片作为基底,进行一次生长纳米阵列。第二步水热法中,则采用已经生长有单晶二氧化锰方形纳米管主干的单抛硅片作为基底,进行二次生长纳米阵列。在二次生长过程中,将生长有单晶二氧化锰方形纳米管主干的单抛硅片抛光面向下放置。此外,二次生长时使用的单抛硅片有三片。值得注意的是,在二次生长过程中,原料的浓度低于一次生长时的浓度。

(此文字表达经过AI优化完善,查看原文请点击 原文)
专利基本信息
专利名称 一种二氧化锰树枝状纳米阵列电极材料及制备方法
专利状态 - 专利号(申请号) CN201510030906.2
申请号 - 专利申请日期 2015-01-21
专利授权日期 2017-03-15 专利权届满日 -
专利所属地 中国 专利类型 发明专利
发明人 樊海明;余宝智;任兆玉
权利人 -
专利摘要 本发明提供了一种二氧化锰树枝状纳米阵列电极材料及制备方法,每个树枝状二氧化锰阵列单元在单晶二氧化锰方形纳米管主干的四个侧棱上生长有四列单晶二氧化锰方形纳米管枝干;枝干轴向与主干轴向之间的夹角范围为57°~62°。采用两步水热法合成;第一步水热法过程中采用单抛硅片作为基底来一次生长纳米阵列;第二步水热法过程中采用生长有单晶二氧化锰方形纳米管主干的单抛硅片作为基底来二次生长纳米阵列;在二次生长时将生长有单晶二氧化锰方形纳米管主干的单抛硅片抛光面向下放置;在二次生长时所述的生长有单晶二氧化锰方形纳米管主干的单抛硅片为三片;在二次生长时原料的浓度低于一次生长时原料的浓度。
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