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成果概况
简介
该发明涉及一种二氧化锡纳米传感器件的制造方法,属于半导体传感器、气敏元件制造工艺技术领域。
该发明方法主要采用AFM(原子力显微镜)微细加工技术。在控制探针尖端电压和扫描方式条件下,以及在水分子存在的环境中,对金属锡电极表面进行局部阳极氧化,从而加工得到二氧化锡纳米结构传感器件。
制得的二氧化锡纳米传感器在常温下对氢气非常敏感,同时具有很好的选择性,可以作为检测环境中氢气浓度的传感器。
发明专利号:ZL03141514.8。
该发明涉及一种二氧化锡纳米传感器件的制造方法,属半导体传感器气敏元件制造工艺技术领域。该发明方法主要采用AFM微细加工技术,控制探针尖端电压和扫描方式条件下以及在水分子存在的条件下,对金属锡电极表面进行局部阳极氧化,从而加工得到二氧化锡纳米结构传感器件。该发明方法制得的二氧化锡纳米传感器在常温下对氢气非常敏感,同时具有很好的选择性,可以作为检测环境中氢气浓度的传感器。发明专利号:ZL03141514.8。
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原文)
专利基本信息
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专利号(申请号) |
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专利申请日期 |
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专利权届满日 |
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专利类型 |
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