当前位置: 首页 > 科技成果列表 > 科技成果详细

非对称真空灭弧室纵向磁场触头结构

技术类型:实用新型专利

技术成熟度:研发

转让方式:技术转让、技术许可、技术入股

专利申请日:2016-10-28

专利所属地 :中国

专利号:CN201621185197.1

应用领域:输配电及控制设备制造

技术领域:新材料

交易价格:面议专利价值评估

应用案例:否

了解与分析本科技成果,可查看成果概况并使用以下技术转移数智化应用工具:
成果概况
简介

摘要:

本实用新型公开了一种非对称真空灭弧室纵向磁场触头结构,该结构包括静触头片和动触头片。具体来说,静触头片与静导电杆固定连接,动触头片与动导电杆固定连接。在静触头片与动触头片之间存在间隙,同时,在静触头片与静导电杆之间设有纵向磁场线圈,在动触头片与动导电杆之间设有动触头外屏蔽罩。

本实用新型的设计有利于减小灭弧室的尺寸,从而实现断路器体积的小型化。此外,内部所形成的纵向磁场呈“偏心式”,磁场有效面积较大,这有利于真空电弧直接进入扩散态。因此,本实用新型能够显著提高灭弧室的使用寿命,并具有优秀的开断性能。

(此文字表达经过AI优化完善,查看原文请点击 原文)
技术标签
专利基本信息
专利名称 非对称真空灭弧室纵向磁场触头结构
专利状态 - 专利号(申请号) CN201621185197.1
申请号 - 专利申请日期 2016-10-28
专利授权日期 2017-04-19 专利权届满日 -
专利所属地 中国 专利类型 实用新型专利
发明人 易荣先;郭建炎;杨长洲;魏明明;段振斌
权利人 -
专利摘要 本实用新型公开了一种非对称真空灭弧室纵向磁场触头结构,包括静触头片和动触头片,静触头片与静导电杆固定连接,动触头片与动导电杆固定连接,静触头片与动触头片之间存在间隙,静触头片与静导电杆之间设有纵向磁场线圈,动触头片与动导电杆之间设有动触头外屏蔽罩。本实用新型有利于减小灭弧室尺寸,使断路器体积小型化;内部所形成纵向磁场呈“偏心式”,磁场有效面积较大,利于真空电弧直接进入扩散态,灭弧室使用寿命长,开断性能好。
成果评价分析
技术应用分析
服务案例
Baidu
map