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一种陶瓷衬底表面太阳选择性吸收涂层及其制备方法

技术类型:发明专利

技术成熟度:研发

转让方式:技术转让、技术许可、技术入股

专利申请日:2016-04-18

专利所属地 :中国

专利号:CN201610240343.4

应用领域:铁合金冶炼

技术领域:新材料

交易价格:面议专利价值评估

应用案例:否

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成果概况
简介

针对目前钒钛黑瓷涂层表面发射率高、热辐射损失大等不足, 本发明提出一种陶瓷衬底表面太阳选择性吸收涂层及其制备方法。 该涂层由三层组成,依次为: 1. 钒钛黑瓷吸收层 2. 二氧化硅离子阻隔层 3. 掺锑氧化锡红外反射层。

本发明的优点和突出优势如下: - 采用乙二醇为配位稳定剂与溶剂,可以有效控制锑离子的水解缩合, - 防止锑离子因水解而聚沉, - 从而有效控制锑离子的掺杂浓度, - 使掺锑氧化锡红外反射层反射2.5微米~25微米之间的红外辐射, - 且最高反射率达到80%, - 达到降低选择性吸收涂层发射率的目的。

本发明可以得到以下性能的太阳选择性吸收涂层: - 吸收率大于90% - 发射率小于25%

对废弃物资源再利用和太阳能的有效热利用具有积极意义。

(此文字表达经过AI优化完善,查看原文请点击 原文)
专利基本信息
专利名称 一种陶瓷衬底表面太阳选择性吸收涂层及其制备方法
专利状态 - 专利号(申请号) CN201610240343.4
申请号 - 专利申请日期 2016-04-18
专利授权日期 2016-07-20 专利权届满日 -
专利所属地 中国 专利类型 发明专利
发明人 徐雪青;范玉容;王毅;梁柱荣;徐刚
权利人 -
专利摘要 针对目前钒钛黑瓷涂层表面发射率高、热辐射损失大等不足,本发明提出一种陶瓷衬底表面太阳选择性吸收涂层及其制备方法,该涂层由三层组成,依次为钒钛黑瓷吸收层、二氧化硅离子阻隔层、掺锑氧化锡红外反射层。本发明的优点和突出优势在于:采用乙二醇为配位稳定剂与溶剂,可以有效控制锑离子的水解缩合,防止锑离子因水解而聚沉,从而有效控制锑离子的掺杂浓度,使掺锑氧化锡红外反射层反射2.5微米~25微米之间的红外辐射,且最高反射率达到80%,达到降低选择性吸收涂层发射率的目的;本发明可以得到吸收率大于90%、发射率小于25%的太阳选择性吸收涂层,对废弃物资源再利用和太阳能的有效热利用具有积极意义。
成果评价分析
技术应用分析
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