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一种制备氧化钒薄膜的方法

技术类型:发明专利

技术成熟度:研发

转让方式:技术转让、技术许可、技术入股

专利申请日:2002-07-13

专利所属地 :中国

专利号:CN02138793.1

应用领域:铁合金冶炼

技术领域:新材料

交易价格:面议专利价值评估

应用案例:否

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成果概况
简介

一种制备氧化钒薄膜的方法,具体步骤如下:

  1. 衬底表面清洗:

    • 对衬底进行彻底清洗。
  2. 溅射钒膜:

    • 充入氩气至安放衬底的真空室。
    • 分别采用平行粒子束、聚焦粒子束清洗衬底和靶材。
    • 溅射镀制钒膜,直至镀膜结束。
  3. 氧化扩散和后退火:

    • 在氩气气氛下加热退火炉。
    • 升温后充入氧气,氧气和氩气的流量比为1∶10~10∶1。
    • 进行氧化钒膜制备。
    • 钒膜氧化充分后,关闭氧气阀。
    • 在纯氩气中退火氧化钒膜。
    • 退火结束后,关闭退火炉。
    • 在氩气环境内冷却至室温。

该方法克服了反应离子溅射镀膜方法存在的内在缺陷,避免了粒子束对氧化钒膜结构的损伤,增强薄膜的致密性和与衬底的粘附性。同时,不需要在溅射镀膜过程中严格控制反应气体流量,降低了方法难度,增加了方法的可重复性。因此,能制备出具有不同化学配比、可满足多种需求的氧化钒薄膜。

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专利基本信息
专利名称 一种制备氧化钒薄膜的方法
专利状态 - 专利号(申请号) CN02138793.1
申请号 - 专利申请日期 2002-07-13
专利授权日期 2005-03-30 专利权届满日 -
专利所属地 中国 专利类型 发明专利
发明人 黄光;陈长虹;王宏臣;李雄伟;陈四海;易新建
权利人 -
专利摘要 一种制备氧化钒薄膜的方法,包括①衬底表面清洗。②溅射钒膜:充入氩气至安放衬底的真空室,分别采用平行粒子束、聚焦粒子束清洗衬底和耙材;溅射镀制钒膜,直至镀膜结束。③氧化扩散和后退火:在氩气气氛下加热退火炉,升温后充入氧气,氧气和氩气的流量比为1∶10~10∶1;氧化钒膜,制备氧化钒薄膜;钒膜氧化充分后,关闭氧气阀,氧化钒膜在纯氩气中退火;退火结束后,关闭退火炉,在氩气环境内冷却至室温。该方法克服了反应离子溅射镀膜方法存在的内在缺陷,避免了粒子束对氧化钒膜结构的损伤,增强薄膜的致密性和与衬底的粘附性;不需要在溅射镀膜过程中严格控制反应气体流量,降低了方法难度,增加了方法的可重复性,能制备出具有不同化学配比、可满足多种需求的氧化钒薄膜。
成果评价分析
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