一种制备氧化钒薄膜的方法,具体步骤如下:
衬底表面清洗:
溅射钒膜:
氧化扩散和后退火:
该方法克服了反应离子溅射镀膜方法存在的内在缺陷,避免了粒子束对氧化钒膜结构的损伤,增强薄膜的致密性和与衬底的粘附性。同时,不需要在溅射镀膜过程中严格控制反应气体流量,降低了方法难度,增加了方法的可重复性。因此,能制备出具有不同化学配比、可满足多种需求的氧化钒薄膜。
| 专利名称 | 一种制备氧化钒薄膜的方法 | ||
|---|---|---|---|
| 专利状态 | - | 专利号(申请号) | CN02138793.1 |
| 申请号 | - | 专利申请日期 | 2002-07-13 |
| 专利授权日期 | 2005-03-30 | 专利权届满日 | - |
| 专利所属地 | 中国 | 专利类型 | 发明专利 |
| 发明人 | 黄光;陈长虹;王宏臣;李雄伟;陈四海;易新建 | ||
| 权利人 | - | ||
| 专利摘要 | 一种制备氧化钒薄膜的方法,包括①衬底表面清洗。②溅射钒膜:充入氩气至安放衬底的真空室,分别采用平行粒子束、聚焦粒子束清洗衬底和耙材;溅射镀制钒膜,直至镀膜结束。③氧化扩散和后退火:在氩气气氛下加热退火炉,升温后充入氧气,氧气和氩气的流量比为1∶10~10∶1;氧化钒膜,制备氧化钒薄膜;钒膜氧化充分后,关闭氧气阀,氧化钒膜在纯氩气中退火;退火结束后,关闭退火炉,在氩气环境内冷却至室温。该方法克服了反应离子溅射镀膜方法存在的内在缺陷,避免了粒子束对氧化钒膜结构的损伤,增强薄膜的致密性和与衬底的粘附性;不需要在溅射镀膜过程中严格控制反应气体流量,降低了方法难度,增加了方法的可重复性,能制备出具有不同化学配比、可满足多种需求的氧化钒薄膜。 | ||