一种光学元件挥发溶剂循环回收利用的自动清洗方法

本发明公开了一种光学元件挥发溶剂循环回收利用的自动清洗方法，具体包括以下步骤：

1. 上料：将需要清洗的光学元件放入清洗设备中。
2. 超声清洗：利用高频超声的冲刷作用，对光学元件进行清洁。
3. 喷淋清洗：通过喷淋系统，对光学元件进行进一步的清洗。
4. 烘干出料：清洗完成后，将光学元件烘干并取出。
5. 循环回收：将清洗过程中产生的挥发废气和清洗废液引导入循环回收系统，进行冷凝液化后回收再利用。

本发明能够有效解决对无磨料水溶解超精密抛光后的诸如KDP类的光学晶体元件的清洗问题。由于清洗过程中没有固体颗粒物质，且采用高频超声的冲刷作用和风淋等非接触式的清洗措施，因此能够防止外力对软脆光学元件造成损害，保证了清洗元件的表面质量。

本发明实现了对光学元件的多工位自动化清洗，并具有以下优点：

1. 将清洗过程中易挥发的清洗液产生的挥发废气和清洗废液引导入循环回收系统，进行冷凝液化后回收再利用，实现环保无排放清洗。
2. 减少了清洗液的浪费，降低了成本。
3. 防止了环境污染，提高了经济性。

此外，本发明的清洗参数实时可调，使清洗过程易于控制，提高了清洗效率和清洗质量。

本发明公开了一种光学元件挥发溶剂循环回收利用的自动清洗方法，包括上料、超声清洗、喷淋清洗、烘干出料和循环回收步骤。本发明能够有效解决对无磨料水溶解超精密抛光后的诸如KDP类的光学晶体元件的清洗问题。由于本发明清洗过程中没有固体颗粒物质，使用高频超声的冲刷作用和风淋等非接触式的清洗措施，防止了外力对软脆光学元件造成损害，保证了清洗元件的表面质量。本发明实现了对光学元件的多工位自动化清洗，并且将清洗过程中易挥发清洗液产生的挥发废气和清洗废液引导入循环回收系统，进行冷凝液化后回收再利用，实现环保无排放清洗，减少了浪费，防止了环境污染，提高了经济性。本发明的清洗参数实时可调，使清洗过程易于控制。