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一种烧结炉炉内气氛中S杂质含量水平的标定方法

技术类型:发明专利

技术成熟度:研发

转让方式:技术转让、技术许可、技术入股

专利申请日:2010-04-13

专利所属地 :中国

专利号:CN201010145881.8

应用领域:专用化学产品制造

技术领域:新材料

交易价格:面议专利价值评估

应用案例:否

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成果概况
简介

本发明公开了一种烧结炉炉内气氛中S杂质含量水平的标定方法(专利号:201010145881.8)。S杂质含量水平的标定是烧结炉清洁处理与烧结产品质量稳定性控制的基础。

本发明通过以下步骤对S杂质含量水平进行标定:

  1. 制备WC-8~15%Co-0~0.75%VC%-0~0.75%Cr3C2-0.03~0.09%RE标定块;
  2. 将标定块随炉烧结;
  3. 对标定块烧结体表面进行X射线衍射物相分析。

根据分析结果,标定烧结炉内气氛中S杂质含量水平如下:

  • 当标定块烧结体表面存在稀土硫化物物相时,烧结炉内气氛中S杂质含量水平为A级;
  • 当标定块烧结体表面不存在稀土硫化物物相,但存在稀土氧硫化物物相时,烧结炉内气氛中S杂质含量水平为B级;
  • 当标定块烧结体表面既不存在稀土硫化物,也不存在稀土氧硫化物,但存在稀土氧化物或不存在任何含稀土物相时,烧结炉内气氛中S杂质含量水平为C级,即安全级。
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专利基本信息
专利名称 一种烧结炉炉内气氛中S杂质含量水平的标定方法
专利状态 - 专利号(申请号) CN201010145881.8
申请号 - 专利申请日期 2010-04-13
专利授权日期 2012-05-23 专利权届满日 -
专利所属地 中国 专利类型 发明专利
发明人 张立;吴厚平;陈述;熊湘君
权利人 -
专利摘要 本发明公开了一种烧结炉炉内气氛中S杂质含量水平的标定方法。S杂质含量水平的标定是烧结炉清洁处理与烧结产品质量稳定性控制的基础。本发明通过WC-8~15%Co-0~0.75VC%-0~0.75%Cr3C2-0.03~0.09%RE标定块的制备、标定块的随炉烧结、标定块烧结体表面的X射线衍射物相分析等步骤对S杂质含量水平进行标定。当标定块烧结体表面存在稀土硫化物物相时,烧结炉内气氛中S杂质含量水平为A级;当标定块烧结体表面不存在稀土硫化物物相,但存在稀土氧硫化物物相时,烧结炉内气氛中S杂质含量水平为B级;当标定块烧结体表面既不存在稀土硫化物,也不存在稀土氧硫化物,但存在稀土氧化物或不存在任何含稀土物相时,烧结炉内气氛中S杂质含量水平为C级,即安全级。
成果评价分析
技术应用分析
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