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一种硅量子点的合成方法

技术类型:发明专利

技术成熟度:研发

转让方式:技术转让、技术许可、技术入股

专利申请日:2015-06-23

专利所属地 :中国

专利号:CN201510348215.7

应用领域:化学原料和化学制品制造业

技术领域:-

交易价格:面议专利价值评估

应用案例:否

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成果概况
简介

摘要:

本发明提供一种硅量子点的合成方法,具体步骤如下:

  1. 首先采用除水除氧后的甲苯作为溶剂;
  2. 使SiCl3-C12H25与LiAlH4反应,生成带十二烷基的硅粒子;
  3. 再将该带烷基的硅粒子烧结;
  4. 使硅表面的碳基发生碳化;
  5. 最后得到碳包覆的硅量子点。

该硅量子点的制备方法克服了以往使用剧毒物质氢氟酸刻蚀、高温反应的缺点。本发明制备的硅量子点具有以下优点:

  • 粒径均匀;
  • 反应条件温和;
  • 生产安全可靠;
  • 产品纯度高。

在光电信息传输、存贮、处理、运算和显示等方面,本发明制备的硅量子点具有广泛的应用价值。

(此文字表达经过AI优化完善,查看原文请点击 原文)
专利基本信息
专利名称 一种硅量子点的合成方法
专利状态 - 专利号(申请号) CN201510348215.7
申请号 - 专利申请日期 2015-06-23
专利授权日期 2015-10-14 专利权届满日 -
专利所属地 中国 专利类型 发明专利
发明人 谢宇;许江伟;郭若彬;吴勇民;凌云
权利人 -
专利摘要 本发明提供一种硅量子点的合成方法,首先采用除水除氧后的甲苯做溶剂,使SiCl3-C12H25与LiAlH4反应生成带十二烷基的硅粒子,再将该带烷基的硅粒子烧结,使硅表面的碳基发生碳化,最后得到碳包覆的硅量子点。该硅量子点的制备克服了以往使用剧毒物质氢氟酸刻蚀,高温反应。本发明制备的硅量子点粒径均匀,反应条件温和,生产安全可靠、产品纯度高。在光电信息传输、存贮、处理、运算和显示等方面有应用价值。
成果评价分析
技术应用分析
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