摘要:
本发明提供一种硅量子点的合成方法,具体步骤如下:
该硅量子点的制备方法克服了以往使用剧毒物质氢氟酸刻蚀、高温反应的缺点。本发明制备的硅量子点具有以下优点:
在光电信息传输、存贮、处理、运算和显示等方面,本发明制备的硅量子点具有广泛的应用价值。
| 专利名称 | 一种硅量子点的合成方法 | ||
|---|---|---|---|
| 专利状态 | - | 专利号(申请号) | CN201510348215.7 |
| 申请号 | - | 专利申请日期 | 2015-06-23 |
| 专利授权日期 | 2015-10-14 | 专利权届满日 | - |
| 专利所属地 | 中国 | 专利类型 | 发明专利 |
| 发明人 | 谢宇;许江伟;郭若彬;吴勇民;凌云 | ||
| 权利人 | - | ||
| 专利摘要 | 本发明提供一种硅量子点的合成方法,首先采用除水除氧后的甲苯做溶剂,使SiCl3-C12H25与LiAlH4反应生成带十二烷基的硅粒子,再将该带烷基的硅粒子烧结,使硅表面的碳基发生碳化,最后得到碳包覆的硅量子点。该硅量子点的制备克服了以往使用剧毒物质氢氟酸刻蚀,高温反应。本发明制备的硅量子点粒径均匀,反应条件温和,生产安全可靠、产品纯度高。在光电信息传输、存贮、处理、运算和显示等方面有应用价值。 | ||