本发明提供一种基于悬空p-n结量子阱的光致晶体管及其制备方法。该方法利用各向异性硅刻蚀技术,剥离去除器件结构下的硅衬底层,从而得到基于悬空氮化物薄膜p-n结量子阱的光致晶体管。进一步,采用氮化物背后减薄刻蚀技术,获得超薄的悬空器件。
在本发明中,晶体管的一端作为LED光源,另一端作为光电探测器。由于两个器件之间优异的光谱匹配特性,光电探测器能够感知LED器件发出的光,并将光信号转换为电信号输出,从而实现器件的光致晶体管特性。
此外,该晶体管可以作为两个共地的LED光源,独立地传输被调制的光信号,实现可见光无线通信的双通道发射。同时,本发明晶体管也可以作为两个共地的光电探测器,独立地感知空间光信号,实现可见光无线通信的双通道探测。
| 专利名称 | 基于悬空p-n结量子阱的光致晶体管及其制备方法 | ||
|---|---|---|---|
| 专利状态 | - | 专利号(申请号) | CN201610132116.X |
| 申请号 | - | 专利申请日期 | 2016-03-09 |
| 专利授权日期 | 2016-06-01 | 专利权届满日 | - |
| 专利所属地 | 中国 | 专利类型 | 发明专利 |
| 发明人 | 王永进;袁威;高绪敏;蔡玮;白丹;许银;朱桂遐;袁炜 | ||
| 权利人 | - | ||
| 专利摘要 | 本发明提供一种基于悬空p-n结量子阱的光致晶体管及其制备方法,利用各向异性硅刻蚀技术,剥离去除器件结构下硅衬底层,得到基于悬空氮化物薄膜p-n结量子阱的光致晶体管,进一步采用氮化物背后减薄刻蚀技术,获得超薄的悬空器件。本发明中,晶体管一端作为LED光源,另一端作为光电探测器,由于两个器件之间优异的光谱匹配特性,光电探测器能够感知LED器件发出的光,将光信号转成电信号输出,从而实现器件的光致晶体管特性;该晶体管作为两个共地的LED光源,独立地传输被调制的光信号,实现可见光无线通信的双通道发射;本发明晶体管可以作为两个共地的光电探测器,独立地感知空间光信号,实现可见光无线通信的双通道探测。 | ||