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一种偏振艾里液晶模板、制备方法和产生系统

技术类型:发明专利

技术成熟度:研发

转让方式:技术转让、技术许可、技术入股

专利申请日:2015-06-26

专利所属地 :中国

专利号:CN201510362190.6

应用领域:光学仪器制造

技术领域:电子信息

交易价格:面议专利价值评估

应用案例:否

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成果概况
简介

本发明公开了一种偏振艾里液晶模板、其制备方法和产生系统。该偏振艾里液晶模板包括以下结构:

  1. 相对设置的第一基板和第二基板;
  2. 位于第一基板和第二基板之间的液晶层。

具体来说,第一基板与第二基板之间设置有间隔粒子,用于支撑所述液晶层。此外,第一基板和第二基板近邻液晶层的一侧设置有光控取向膜。光控取向膜具有以下特性:

  • 分子指向矢方向呈周期性渐变分布;
  • 立方相位控制图形,其中每个周期的宽度从控制图形的中心区域向两边逐渐递减。

通过光控取向膜的控制图形,所述液晶层中的液晶分子指向矢呈周期性0°‑180°渐变分布。这一特性使得照射在偏振艾里液晶模板上的入射光转换为艾里光束。

本发明通过上述结构,有效提高了偏振艾里液晶模板的激光损伤阈值,并在强光条件下增强了偏振艾里液晶模板的稳定性。

(此文字表达经过AI优化完善,查看原文请点击 原文)
专利基本信息
专利名称 一种偏振艾里液晶模板、制备方法和产生系统
专利状态 - 专利号(申请号) CN201510362190.6
申请号 - 专利申请日期 2015-06-26
专利授权日期 2017-08-25 专利权届满日 -
专利所属地 中国 专利类型 发明专利
发明人 胡伟;魏冰妍;陈鹏;陆延青;徐飞
权利人 -
专利摘要 本发明公开了一种偏振艾里液晶模板、制备方法和产生系统,偏振艾里液晶模板包括:相对设置的第一基板和第二基板,以及位于第一基板和第二基板之间的液晶层;其中,第一基板与第二基板之间设置有间隔粒子,以支撑所述液晶层;第一基板和第二基板近邻所述液晶层的一侧设置有光控取向膜,光控取向膜具有分子指向矢方向呈周期性渐变分布的立方相位控制图形,立方相位控制图形每个周期的宽度从控制图形的中心区域向两边逐渐递减,光控取向膜的控制图形控制所述液晶层中的液晶分子指向矢呈周期性0°-180°渐变分布,以使照射在偏振艾里液晶模板的入射光转换为艾里光束,提高偏振艾里液晶模板的激光损伤阈值和强光条件下的偏振艾里液晶模板的稳定性。
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