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电感耦合等离子体管筒内表面离子注入改性装置及方法

技术类型:发明专利

技术成熟度:研发

转让方式:技术转让、技术许可、技术入股

专利申请日:2009-04-23

专利所属地 :中国

专利号:CN200910071869.4

应用领域:化学原料和化学制品制造业

技术领域:-

交易价格:面议专利价值评估

应用案例:否

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成果概况
简介

摘要:

电感耦合等离子体管筒内表面离子注入改性装置及方法,涉及一种表面处理装置和处理方法。本发明旨在解决现有管筒内表面离子注入处理时,因采用电容耦合等离子体导致放电间距大,难以对细管内表面进行处理的问题。

装置: - 螺线管设置在管筒内,其一端与匹配箱连接,另一端与地极连接。

方法: 1. 将真空室内抽真空; 2. 向真空室内充入气体; 3. 在螺线管内外产生轴向均匀的电感耦合等离子体; 4. 脉冲负高压施加到管筒上,使管筒内形成径向电场; 5. 关闭脉冲负高压电源和射频电源,完成电感耦合等离子体管筒内表面离子注入。

本发明具有等离子体源放电均匀的优点,螺线管起到地电极钳制电位的作用,使得本发明能够对直径更细小的管筒内表面进行离子注入处理。

(此文字表达经过AI优化完善,查看原文请点击 原文)
专利基本信息
专利名称 电感耦合等离子体管筒内表面离子注入改性装置及方法
专利状态 - 专利号(申请号) CN200910071869.4
申请号 - 专利申请日期 2009-04-23
专利授权日期 2009-09-09 专利权届满日 -
专利所属地 中国 专利类型 发明专利
发明人 田修波;汪志健;杨士勤
权利人 -
专利摘要 电感耦合等离子体管筒内表面离子注入改性装置及方法,它涉及一种表面处理装置和处理方法。本发明为解决现有管筒内表面离子注入处理时因采用电容耦合等离子体使得放电间距大而难以对细管内表面进行处理的问题。装置:螺线管设置在管筒内,且一端与匹配箱连接、另一端与地极连接。方法:一、将真空室内抽真空;二、向真空室内充入气体;三、螺线管内外产生轴向均匀的电感耦合等离子体;四、脉冲负高压施加到管筒上使管筒内形成径向电场;五、关闭脉冲负高压电源和射频电源,完成电感耦合等离子体管筒内表面离子注入。本发明具有等离子体源放电均匀的优点,螺线管起到地电极钳制电位的作用,本发明可以对直径更细小的管筒内表面进行离子注入处理。
成果评价分析
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