当前位置: 首页 > 科技成果列表 > 科技成果详细

硅‑锗合金量子点的制备方法

技术类型:发明专利

技术成熟度:研发

转让方式:技术转让、技术许可、技术入股

专利申请日:2016-06-23

专利所属地 :中国

专利号:CN201610479402.3

应用领域:化学原料和化学制品制造业

技术领域:新材料

交易价格:面议专利价值评估

应用案例:否

了解与分析本科技成果,可查看成果概况并使用以下技术转移数智化应用工具:
成果概况
简介

摘要:

本发明公开了一种硅-锗合金量子点的制备方法。具体步骤如下:

  1. 首先对甲苯进行预处理;
  2. 然后进行硅-锗合金量子点的合成;
  3. 利用反应生成带烷基的硅粒子,溶解于正己烷中;
  4. 将硅量子点转移到有机溶剂相中,从而进一步去除杂质。

该方法具有以下优点:

  • 操作方法简便;
  • 所需设备简单;
  • 反应条件温和;
  • 成本较低;
  • 生产安全可靠;
  • 产品纯度高;
  • 产率高。

在光电信息传输、存储、处理、运算和显示等方面,该方法具有显著的应用价值。

(此文字表达经过AI优化完善,查看原文请点击 原文)
专利基本信息
专利名称 硅-锗合金量子点的制备方法
专利状态 - 专利号(申请号) CN201610479402.3
申请号 - 专利申请日期 2016-06-23
专利授权日期 2016-11-16 专利权届满日 -
专利所属地 中国 专利类型 发明专利
发明人 谢宇;宋健华;吴勇民;凌云
权利人 -
专利摘要 本发明公开了一种硅‑锗合金量子点的制备方法,先把甲苯进行预处理,再进行硅‑锗合金量子点的合成,利用反应生成带烷基的硅粒子溶解于正己烷中,将硅量子点转移到有机溶剂相中,从而进一步去除杂质;操作方法简便,所需设备简单,反应条件温和,成本较低,生产安全可靠,产品纯度高,产率高,在光电信息传输、存贮、处理、运算和显示等方面有应用价值。
成果评价分析
技术应用分析
服务案例
Baidu
map