类金刚石薄膜沉积技术

技术投资分析：

简介: 金刚石薄膜集力学、电学、热学、光学等优异特性于一身，被公认是最有发展前途的新型电子材料。金刚石薄膜是一种优异的高温半导体材料，对半导体器件的发展将起到举足轻重的作用。此外，金刚石薄膜还将使超大规模和超高速集成电路的发展进入一个新的时代。上海大学材料学院长期从事“类金刚石薄膜沉积技术”研究，取得了显著的成果。“类金刚石膜作光学增透膜新应用”项目，1992获国家发明专利，同时获当代专利博览会金奖，该成果鉴定为国际先进水平；“金刚石膜/氧化铝陶瓷复合材料—超大规模集成电路封装基片”项目，2003年获上海市科技进步奖三等奖。

主要特点与技术性能: DLC膜作为光增透膜沉积在太阳能电池上，使短路电流接近40%的理论值；沉积在HgCdTe上，使红外透过率增加16%。复合材料具有以下特性：介电系数小于8.5、1MHz频率下介电损耗低于10^-3、热导率4W/cm·K。

技术的应用领域与前景分析： 用途: 类金刚石膜作光学增透膜可以制成高电压的高速光电开关、粒子（射线）、紫外线探测器、激光传感器、热敏电阻等许多电子元器件。此外，还可广泛应用于半导体技术、集成电路技术以及其他新型电子材料方面，市场前景广阔。

效益分析： 针对市场，对于可行性度、经济效益以及市场可行性寿命进行分析。

厂房条件建议： 无

备注： 无

技术投资分析： 简介: 金刚石薄膜集力学、电学、热学、光学等优异特性于一身，被公认是最有发展前途的新型电子材料。金刚石薄膜是一种优异的高温半导体材料，对半导体器件的发展将起到举足轻重的作用。此外，金刚石薄膜还将使超大规模和超高速集成电路的发展进入一个新的时代。上海大学材料学院长期从事“类金刚石薄膜沉积技术”研究，取得了显著的成果。“类金刚石膜作光学增透膜新应用”项目，1992获国家发明专利，同时获当代专利博览会金奖，该成果鉴定为国际先进水平；“金刚石膜/氧化铝陶瓷复合材料—超大规模集成电路封装基片”项目，2003年获上海市科技进步奖三等奖。 主要特点技术性能: DLC膜作为光增透膜沉积在太阳能电池，使短路电流接近40%的理论值，沉积在HgCdTe上使红外透过率增加16%，复合材料介电系数：小于8.5、1MHz频率下介电损耗低于10-3、热导率4W/cm.K。 技术的应用领域前景分析： 用途: 类金刚石膜作光学增透膜可以制成高电压的高速光电开关、粒子（射线）、紫外线探测器、激光传感器、热敏电阻等许多电子元器件，还可以广泛的应用于半导体技术、集成电路技术以及其他新型电子材料方面，市场前景广阔。 效益分析： 针对市场，对于可行性度以及经济效益，以及市场可行性寿命。 厂房条件建议： 无 备注： 无