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一种可控宏量制备二硫化钼纳米条带的方法

技术类型:发明专利

技术成熟度:研发

转让方式:技术转让、技术许可、技术入股

专利申请日:2017-01-10

专利所属地 :中国

专利号:CN201710014734.9

应用领域:专用化学产品制造

技术领域:-

交易价格:面议专利价值评估

应用案例:否

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成果概况
简介

本发明提供了一种可控宏量制备二硫化钼纳米条带的方法,具体步骤如下:

  1. 将一定量的含硫混合物和三氧化钼模板分别放置在两个托盘中,然后将这两个托盘分别放入双温区管式炉的两个温区内;
  2. 将放置三氧化钼模板的温区升温至200℃至1500℃,并保温1分钟至5小时;
  3. 同时将放置含硫混合物的温区升温至100℃至900℃,并保温1分钟至5小时;
  4. 保温结束后,停止加热,待双温区管式炉的炉膛降温后,即可得到位于二氧化钼纳米片边缘的二硫化钼纳米条带。

本发明具有以下优点: - 生产设备更加简单,与现有的物理制备方法相比,不需要昂贵的电子束(离子束)设备,成本低廉; - 产物二硫化钼纳米条带性质稳定; - 条带的厚度可控。

(此文字表达经过AI优化完善,查看原文请点击 原文)
专利基本信息
专利名称 一种可控宏量制备二硫化钼纳米条带的方法
专利状态 - 专利号(申请号) CN201710014734.9
申请号 - 专利申请日期 2017-01-10
专利授权日期 2017-06-13 专利权届满日 -
专利所属地 中国 专利类型 发明专利
发明人 黄青松;齐瑞峰;毕晓峰
权利人 -
专利摘要 本发明提供了一种可控宏量制备二硫化钼纳米条带的方法,其包括如下步骤:(1)将一定量的含硫混合物和三氧化钼模板分别放置在两个托盘中,然后将两个所述托盘分别放入双温区管式炉的两个温区内;(2)将放置三氧化钼模板的温区升温至200℃‑1500℃,并保温1min‑5h;(3)同时将放置含硫混合物的温区升温至100℃‑900℃,并保温1min‑5h;(4)保温结束后停止加热,待所述双温区管式炉的炉膛降温后则可得到位于二氧化钼纳米片边缘的二硫化钼纳米条带。本发明生产设备更加简单,与现有的物理制备方法相比,不需要昂贵的电子束(离子束)设备,成本低廉;产物二硫化钼纳米条带性质稳定,并且条带的厚度可控。
成果评价分析
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