本发明专利所述的一种基于纳米孔隙结构无序增益介质的制备方法,操作简易,采用旋涂成膜法。该方法使用甲醇和THF作为混合溶剂,并利用PMMA和PS作为薄膜基材。通过旋涂法在薄膜中形成相分离结构,然后用选择性溶剂环己烷将PS去除,即可获得由PMMA与空气纳米孔隙组成的二维无序介质样品。
该方法成本低、简便、环保,适用于多种不同基材和发光中心的无序增益介质的制备。采用本方法获得的纳米孔隙无序增益介质,其散射单元大小均一、分散性好。通过改变制备工艺参数,可以控制其尺寸、形状和填充率等形貌参数,从而实现对随机激光输出模式的控制。
| 专利名称 | 一种基于纳米孔隙结构的无序增益介质的制备方法 | ||
|---|---|---|---|
| 专利状态 | - | 专利号(申请号) | CN201610861230.6 |
| 申请号 | - | 专利申请日期 | 2016-09-28 |
| 专利授权日期 | 2017-01-11 | 专利权届满日 | - |
| 专利所属地 | 中国 | 专利类型 | 发明专利 |
| 发明人 | 吕健滔;樊婷 | ||
| 权利人 | - | ||
| 专利摘要 | 本发明所述的一种基于纳米孔隙结构无序增益介质的制备方法,采用操作简易的旋涂成膜法,采用甲醇和THF作为混合溶剂,利用PMMA和PS作为薄膜基材,通过旋涂法在薄膜中形成相分离结构,用选择性溶剂环己烷将PS去除后即可获得由PMMA与空气纳米孔隙组成的二维无序介质样品,该方法成本低、简便、环保,适用于多种不同基材和发光中心的无序增益介质的制备。采用本方法获得的纳米孔隙无序增益介质,其散射单元大小均一、分散性好,并通过改变制备工艺参数来控制其尺寸、形状和填充率等形貌参数,从而实现对随机激光输出模式的控制。 | ||