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一种基于纳米孔隙结构的无序增益介质的制备方法

技术类型:发明专利

技术成熟度:研发

转让方式:技术转让、技术许可、技术入股

专利申请日:2016-09-28

专利所属地 :中国

专利号:CN201610861230.6

应用领域:环保、邮政、社会公共服务及其他专用设备制造

技术领域:新材料

交易价格:面议专利价值评估

应用案例:否

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成果概况
简介

本发明专利所述的一种基于纳米孔隙结构无序增益介质的制备方法,操作简易,采用旋涂成膜法。该方法使用甲醇和THF作为混合溶剂,并利用PMMA和PS作为薄膜基材。通过旋涂法在薄膜中形成相分离结构,然后用选择性溶剂环己烷将PS去除,即可获得由PMMA与空气纳米孔隙组成的二维无序介质样品。

该方法成本低、简便、环保,适用于多种不同基材和发光中心的无序增益介质的制备。采用本方法获得的纳米孔隙无序增益介质,其散射单元大小均一、分散性好。通过改变制备工艺参数,可以控制其尺寸、形状和填充率等形貌参数,从而实现对随机激光输出模式的控制。

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专利基本信息
专利名称 一种基于纳米孔隙结构的无序增益介质的制备方法
专利状态 - 专利号(申请号) CN201610861230.6
申请号 - 专利申请日期 2016-09-28
专利授权日期 2017-01-11 专利权届满日 -
专利所属地 中国 专利类型 发明专利
发明人 吕健滔;樊婷
权利人 -
专利摘要 本发明所述的一种基于纳米孔隙结构无序增益介质的制备方法,采用操作简易的旋涂成膜法,采用甲醇和THF作为混合溶剂,利用PMMA和PS作为薄膜基材,通过旋涂法在薄膜中形成相分离结构,用选择性溶剂环己烷将PS去除后即可获得由PMMA与空气纳米孔隙组成的二维无序介质样品,该方法成本低、简便、环保,适用于多种不同基材和发光中心的无序增益介质的制备。采用本方法获得的纳米孔隙无序增益介质,其散射单元大小均一、分散性好,并通过改变制备工艺参数来控制其尺寸、形状和填充率等形貌参数,从而实现对随机激光输出模式的控制。
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