摘要:
本发明公开了一种含氟共聚物多孔膜的制膜配方,其组成为: - 15~50wt%的乙烯-三氟氯乙烯共聚物, - 30~85wt%的稀释剂, - 0~20wt%的复合致孔剂, 各组分之和为100wt%。
所述稀释剂为己二酸二异辛酯或己二酸二异辛酯与邻苯二甲酸二丁酯、邻苯二甲酸二乙酯和邻苯二甲酸二辛酯中的任意一种或任意几种以任意比的混合物。
同时,本发明还公开了利用该制膜配方制备含氟共聚物平板多孔膜和含氟共聚物中空纤维多孔膜的方法。
利用该制膜配方可将制膜温度降低至200℃以下,工艺简单,且最终制得的膜具有以下优点: - 力学性能佳, - 孔隙率高, - 通透性好。
这些膜可用于酸碱介质、有机溶剂等苛刻条件下的膜分离。
| 专利名称 | 含氟共聚物多孔膜的制膜配方及利用该配方制备多孔膜的方法 | ||
|---|---|---|---|
| 专利状态 | - | 专利号(申请号) | CN201510013245.2 |
| 申请号 | - | 专利申请日期 | 2015-01-12 |
| 专利授权日期 | 2017-03-15 | 专利权届满日 | - |
| 专利所属地 | 中国 | 专利类型 | 发明专利 |
| 发明人 | 肖长发;潘健;黄庆林;刘海亮 | ||
| 权利人 | - | ||
| 专利摘要 | 本发明公开了一种含氟共聚物多孔膜的制膜配方,其组成为:15~50wt%的乙烯-三氟氯乙烯共聚物、30~85wt%的稀释剂和0~20wt%的复合致孔剂,各组分之和为100wt%;所述稀释剂为己二酸二异辛酯或己二酸二异辛酯与邻苯二甲酸二丁酯、邻苯二甲酸二乙酯和邻苯二甲酸二辛酯中的任意一种或任意几种以任意比的混合物。同时本发明还公开了利用该制膜配方制备含氟共聚物平板多孔膜和含氟共聚物中空纤维多孔膜的方法。利用该制膜配方可将制膜温度降低至200℃以下,工艺简单,且最终制得的膜力学性能佳、孔隙率高、通透性好,可用于酸碱介质、有机溶剂等苛刻条件下的膜分离。 | ||