一种基于锰掺杂氮化铜薄膜的可见光探测器

本发明属于光电探测技术领域，提供一种基于锰掺杂氮化铜薄膜的可见光探测器。

所述的可见光探测器由以下部分组成：衬底1、底电极2、可见光吸收层3和顶电极4。可见光探测器采用最简单的三明治结构，其中可见光吸收层3为锰掺杂氮化铜薄膜，位于底电极2和顶电极4之间。

其制造方法如下： 1. 首先将透明导电玻璃刻蚀，形成0.8cm宽的透明导电窄条。 2. 利用磁控溅射技术沉积锰掺杂氮化铜薄膜。 3. 最后用磁控溅射或蒸发蒸镀的方法沉积金属顶电极4。

基于锰掺杂氮化铜薄膜的可见光探测器具有以下优点： - 良好的光响应度 - 持久可重复跳变性能 - 快速的响应时间 - 结构简单 - 制作成本低 - 原料丰富易得 - 制造方法简单

采用磁控溅射和蒸镀技术，可以规模化生产。

本发明属于光电探测技术领域，提供一种基于锰掺杂氮化铜薄膜的可见光探测器。所述的可见光探测器由衬底1、底电极2、可见光吸收层3和顶电极4组成，可见光探测器为最简单的三明治结构，可见光吸收层3为锰掺杂氮化铜薄膜，位于底电极2和顶电极4之间。其制造方法为，首先将透明导电玻璃刻蚀，形成0.8cm宽的透明导电窄条，然后利用磁控溅射技术沉积锰掺杂氮化铜薄膜，最后用磁控溅射或者蒸发蒸镀的方法沉积金属顶电极4，便得到基于锰掺杂氮化铜薄膜的可见光探测器。该可见光探测器拥有良好的光响应度、持久可重复跳变性能、快速的响应时间，且结构简单，制作成本低，原料丰富易得，制造方法简单，采用磁控溅射和蒸镀技术，可以规模化生产。