当前位置: 首页 > 科技成果列表 > 科技成果详细

基于反向结构的半导体量子点发光二极管及其制备方法

技术类型:发明专利

技术成熟度:研发

转让方式:技术转让、技术许可、技术入股

专利申请日:2014-05-15

专利所属地 :中国

专利号:CN201410206672.8

应用领域:其他电气机械及器材制造

技术领域:-

交易价格:面议专利价值评估

应用案例:否

了解与分析本科技成果,可查看成果概况并使用以下技术转移数智化应用工具:
成果概况
简介

摘要:

本发明属于发光二极管器件制备技术领域,特别涉及一种基于反向结构的半导体量子点发光二极管及其制备方法。

本发明半导体量子点发光二极管依次包括以下层叠结构:

  1. 衬底
  2. 透明导电金属氧化物电极层
  3. 电子注入层
  4. 量子点发光层
  5. 空穴注入层
  6. 对电极层

其中,电子注入层采用乙酰丙酮钛膜材料。

可采用旋涂等溶液加工的方法制备电子注入层,将乙酰丙酮钛引入反向结构量子点发光二极管器件制备中,实现了电子的有效注入。

并且与传统的正向结构和溶胶凝胶法制备的二氧化钛、氧化锌相比,本发明具有以下特点:

  • 发光颜色纯
  • 制备工艺简单
  • 成本低廉
  • 实验重复性和稳定性好
  • 适合于大规模工业化生产
(此文字表达经过AI优化完善,查看原文请点击 原文)
专利基本信息
专利名称 基于反向结构的半导体量子点发光二极管及其制备方法
专利状态 - 专利号(申请号) CN201410206672.8
申请号 - 专利申请日期 2014-05-15
专利授权日期 2017-02-08 专利权届满日 -
专利所属地 中国 专利类型 发明专利
发明人 谭占鳌;孙刚;屠逍鹤;侯旭亮
权利人 -
专利摘要 本发明属于发光二极管器件制备技术领域,特别涉及一种基于反向结构的半导体量子点发光二极管及其制备方法。本发明半导体量子点发光二极管依次包括层叠的衬底、透明导电金属氧化物电极层、电子注入层、量子点发光层、空穴注入层和对电极层,其中涉及的电子注入层采用乙酰丙酮钛膜材料。可采用旋涂等溶液加工的方法制备电子注入层,将乙酰丙酮钛引入反向结构量子点发光二极管器件制备中,实现了电子的有效注入;并且与传统的正向结构和溶胶凝胶法制备的二氧化钛、氧化锌相比,本发明具有发光颜色纯、制备工艺简单,成本低廉,实验重复性和稳定性好、适合于大规模工业化生产等特点。
成果评价分析
技术应用分析
服务案例
Baidu
map