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双色铟镓砷红外探测器及其制备方法和应用

技术类型:非专利

技术成熟度:研发

转让方式:技术转让

专利申请日:2006-03-15

专利所属地 :中国

专利号:CN200610034286.0

应用领域:其他电气机械及器材制造

技术领域:新材料

交易价格:面议专利价值评估

应用案例:否

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成果概况
简介

本发明涉及一种双色铟镓砷(InGaAs)红外探测器。该探测器是在铟磷(InP)衬底上依次生长有InX Ga1-X As材料的光导层和绝缘层,用于探测3-5μm红外线波。同时,还包含适合探测1-3μm红外线波的PIN结构的InGaAs材料层。

所述的红外探测器的制备方法如下:首先,使用金属有机气相淀积技术在InP衬底上生长InGaAs材料,制备出对1-3μm、3-5μm两个波段同时探测的红外外延片。然后,利用该外延片制造出两个波段的红外探测器。

该红外探测器可用于制备多方向测量红外信号器件。

(此文字表达经过AI优化完善,查看原文请点击 原文)
专利基本信息
专利名称 双色铟镓砷红外探测器及其制备方法和应用
专利状态 - 专利号(申请号) CN200610034286.0
申请号 - 专利申请日期 2006-03-15
专利授权日期 - 专利权届满日 -
专利所属地 中国 专利类型 非专利
发明人 孙慧卿;范广涵;郭志友
权利人 -
专利摘要 本发明涉及一种双色铟镓砷(InGaAs)红外探测器,是在铟磷((InP)衬底上依次生长有InXGa1-XAs材料的适合探测3-5μm红外线波的光导层、绝缘层,适合探测1-3μm红外线波的PIN结构的InGaAs材料层。所述的红外探测器的制备方法是用金属有机气相淀积技术在InP衬底上生长InGaAs材料,制备一种对1-3μm、3-5μm两个波段同时探测的红外外延片,再用该外延片制造两个波段的红外探测器。该红外探测器可以用于制备多方向测量红外信号器件。
成果评价分析
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