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基于ZnO薄膜的集成式中子探测器及其制备方法

技术类型:发明专利

技术成熟度:研发

转让方式:技术转让、技术许可、技术入股

专利申请日:2015-06-29

专利所属地 :中国

专利号:CN201510365453.9

应用领域:专用仪器仪表制造

技术领域:电子信息

交易价格:面议专利价值评估

应用案例:否

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成果概况
简介

摘要:

本发明公开了一种基于ZnO薄膜的集成式中子探测器及其制备方法。首先,制备ZnO薄膜光导型紫外探测器。接着,在其上采用射频磁控溅射法制备表面均匀、结晶质量和闪烁性能良好的B、Ga共掺杂ZnO闪烁体薄膜。这一步骤为实现一种B、Ga共掺ZnO闪烁体薄膜/ZnO薄膜光导紫外探测器结构的中子探测器提供了方法。

在本发明中,中子探测器采用B、Ga共掺杂ZnO闪烁体薄膜作为中子转化层,将中子转化成α粒子。随后,α粒子进一步激发B、Ga共掺杂ZnO闪烁体薄膜产生紫外线。最终,利用ZnO薄膜光导型紫外探测器探测这些紫外线,从而实现中子探测。

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技术标签
专利基本信息
专利名称 基于ZnO薄膜的集成式中子探测器及其制备方法
专利状态 - 专利号(申请号) CN201510365453.9
申请号 - 专利申请日期 2015-06-29
专利授权日期 2015-12-16 专利权届满日 -
专利所属地 中国 专利类型 发明专利
发明人 黄健;张磊;杨瑾;陈梦斐;张淑玮;任兵;王宇彤;胡艳;王林军
权利人 -
专利摘要 本发明公开了一种基于ZnO薄膜的集成式中子探测器及其制备方法,首先制备ZnO薄膜光导型紫外探测器,并在其上采用射频磁控溅射法制备表面均匀,结晶质量和闪烁性能良好的B、Ga共掺杂ZnO闪烁体薄膜,从而为实现一种B、Ga共掺ZnO闪烁体薄膜/ZnO薄膜光导紫外探测器结构的中子探测器提供了方法。本发明中子探测器采用B、Ga共掺杂ZnO闪烁体薄膜作为中子转化层将中子转化成α粒子,α粒子进一步激发B、Ga共掺杂ZnO闪烁体薄膜产生紫外线,再利用ZnO薄膜光导型紫外探测器探测紫外线,从而实现中子探测。
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