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叠层亚波长减反结构及其制备方法

技术类型:发明专利

技术成熟度:研发

转让方式:技术转让

专利申请日:2009-12-16

专利所属地 :中国

专利号:200910264905.9

应用领域:专用化学产品制造

技术领域:-

交易价格:面议专利价值评估

应用案例:否

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成果概况
简介

本发明揭示了一种叠层亚波长减反结构,包括以下部分:

  1. 在需要减反的高折射率材料自身表面通过蚀刻形成的亚波长图形。
  2. 在前述亚波长图形表面经沉积生长的介质层。

二者共同构成该叠层亚波长结构。其结构图形是根据所用材料的折射率分布、所要减反的入射光波长和角度范围计算得到的。

本发明亚波长减反结构应用于高折射率表面的有源光电器件,能确实有效实现宽谱广角透射效果。

较之于现有技术,本发明具有以下优势:

  1. 能有效钝化亚波长减反结构,减少非辐射复合中心。
  2. 抑制非辐射复合损失,有效增加相应光电器件性能。
  3. 鉴于空气、介质材料和衬底材料折射率依次变化,故而采用叠层亚波长减反结构还能减弱制备难度,或在相同制备情况下获得更好的减反性能。
(此文字表达经过AI优化完善,查看原文请点击 原文)
专利基本信息
专利名称 叠层亚波长减反结构及其制备方法
专利状态 - 专利号(申请号) 200910264905.9
申请号 - 专利申请日期 2009-12-16
专利授权日期 - 专利权届满日 -
专利所属地 中国 专利类型 发明专利
发明人 张瑞英
权利人 -
专利摘要 本发明揭示了一种叠层亚波长减反结构,包括在需要减反的高折射率材料自身表面通过蚀刻形成的亚波长图形,以及在前述亚波长图形表面经沉积生长的介质层,二者共同构成该叠层亚波长结构,其结构图形根据所用材料的折射率分布和所要减反的入射光波长和角度范围计算得到。本发明亚波长减反结构应用于高折射率表面的有源光电器件,能确实有效实现宽谱广角透射效果。较之于现有技术,本发明能有效钝化亚波长减反结构,减少非辐射复合中心,抑制非辐射复合损失,有效增加相应光电器件性能;并且,鉴于空气、介质材料和衬底材料折射率依次变化,故而采用叠层亚波长减反结构还能减弱制备难度,或在相同制备情况下获得更好的减反性能。
成果评价分析
技术应用分析
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