了解与分析本科技成果,可查看成果概况并使用以下技术转移数智化应用工具:
成果概况
简介
黑磷是一种新型的二维材料,因其较宽的可调控直接带隙、高载流子迁移率和优异的各向异性光电性质,在电子学以及光电子学领域展现出巨大的应用潜力,成为“后石墨烯时代”最受瞩目的二维材料之一。
目前,黑磷主要由正交相体块单晶通过机械剥离或者液相剥离得到。因而,高质量正交相黑磷体块单晶是获得这种新型二维材料的前提。
传统的合成正交相黑磷体块单晶方法包括超高压合成、基于金属汞或铋的催化合成等。这些方法要么依赖于精密且昂贵的仪器(超高压装置),要么依赖于高毒性的金属做催化剂。同时,所获得的正交相黑磷体块单晶产率不高,晶体的品质和尺寸仍有很大的提升空间。
我们发展了一种正交晶系黑磷体块单晶的制备方法,摒弃了传统方法对设备的苛刻要求,也无需高毒性的合成原料。所获得的正交相黑磷体块单晶产率高(>90%),成本低,晶体质量好,尺寸大(毫米级)。
该制备技术契合当今社会提倡的“绿色化学合成”概念。所获得的正交相黑磷体块单晶既能满足目前材料、物理、化学、电子、光电子等广大学术界对这类材料的供应需求,又能推进其商品化和产业化进程。
黑磷是一种新型的二维材料,由于其较宽的可调控直接带隙、高载流子迁移率和优异的各向异性光电性质,在电子学以及光电子学领域展现了巨大的应用潜力,成为“后石墨烯时代”最受瞩目的二维材料之一。目前,黑磷主要由正交相体块单晶通过机械剥离或者液相剥离得到。因而,高质量正交相黑磷体块单晶是获得这种新型二维材料的前提。传统的合成正交相黑磷体块单晶方法包括超高压合成、基于金属汞或铋的催化合成等。这些方法要么依赖于精密且昂贵的仪器(超高压装置),要么依赖于高毒性的金属做催化剂。同时,所获得的正交相黑磷体块单晶产率不高,晶体的品质和尺寸仍有很大的提升空间。我们发展了一种正交晶系黑磷体块单晶的制备方法,摒弃了传统方法对设备的苛刻要求,也无需高毒性的合成原料,所获得的正交相黑磷体块单晶产率高(>90%),成本低,晶体质量好,尺寸大(毫米级)。该制备技术契合当今社会提倡的“绿色化学合成”概念,所获得的正交相黑磷体块单晶既能满足目前材料、物理、化学、电子、光电子等广大学术界对这类材料的供应需求,又能推进其商品化和产业化进程。
(此文字表达经过AI优化完善,查看原文请点击
原文)
专利基本信息
| 专利名称 |
|
| 专利状态 |
|
专利号(申请号) |
|
| 申请号 |
|
专利申请日期 |
|
| 专利授权日期 |
|
专利权届满日 |
|
| 专利所属地 |
|
专利类型 |
|
| 发明人 |
|
| 权利人 |
|
| 专利摘要 |
|