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静叶栅上游端壁双射流气膜冷却特性实验

技术类型:非专利

技术成熟度:-

转让方式:-

应用领域:电子和电工机械专用设备制造

技术领域:光传输系统技术

交易价格:面议专利价值评估

应用案例:否

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成果概况
简介

为了进一步挖掘上游端壁气膜冷却的潜力, 在低速叶栅风洞的静叶片上游端壁上, 实验研究了双射流构型的气膜冷却特性, 并与双排圆孔进行了对比。 探究了吹风比、密度比的效应。 端壁表面的气膜冷却效率通过压力敏感漆(PSP)测得。

结果表明, 吹风比的增大虽然会加剧吹离现象, 但同时也会促进叶栅通道中、后段的气膜覆盖。 密度比的增大会抑制气膜吹离, 促进气膜横向覆盖和提高平均冷却效率。

双射流孔相比于圆孔, 冷却气流在孔下游形成了反肾形涡, 较好抑制了气膜吹离; 但从双射流喷出的冷却气流对于叶栅通道内的涡系也更加敏感。

在高吹风比下, 双射流孔的冷却效率相对于圆孔有一定的优势。

(此文字表达经过AI优化完善,查看原文请点击 原文)
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