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表面改性技术加工RB-SiC超光滑表面反射镜方法

技术类型:发明专利

技术成熟度:研发

转让方式:技术转让

专利申请日:2007-12-26

专利所属地 :中国

专利号:CN200710159200.1

应用领域:化学原料和化学制品制造业

技术领域:新材料

交易价格:面议专利价值评估

应用案例:否

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成果概况
简介

本发明涉及一种加工具有微孔的RB-SiC表面加工及处理方法。具体来说,在RB-SiC基底上,采用表面沉积或能流注入方法产生致密化的加工层。接着,对致密化的加工层进行常规精抛光加工,并进一步采用纳米抛光方法对加工层进行抛光。

本发明将表面改性技术和光学机械加工相结合,旨在解决RB-SiC存在的微孔缺陷问题。通过表面改性技术,可以使待加工的RB-SiC基底表面实现致密化。随后,进行光学二次加工,从而实现RB-SiC基底表面的粗糙度小于1nm(rms)水平。

因此,本发明为以具有微孔材料为基底的超光滑表面加工提供了一种行之有效的方法。

(此文字表达经过AI优化完善,查看原文请点击 原文)
专利基本信息
专利名称 表面改性技术加工RB-SIC超光滑表面反射镜方法
专利状态 - 专利号(申请号) CN200710159200.1
申请号 - 专利申请日期 2007-12-26
专利授权日期 - 专利权届满日 -
专利所属地 中国 专利类型 发明专利
发明人 公发全;刘万发;李刚;董闯;牟宗信
权利人 -
专利摘要 本发明涉及一种加工具有微孔的RB-SIC表面加工及处理方法,在RB-SIC基底采用表面沉积或能流注入方法产生致密化的加工层;然后对致密化的加工层进行常规精抛光加工,再采用纳米抛光方法对加工层进行抛光。本发明将表面改性技术和光学机械加工相结合,其针对RB-SIC存在的微孔缺陷,利用表面改性技术使得待加工RB-SIC基底表面致密化,然后再进行光学二次加工,以实现RB-SIC基底表面的粗糙度小于1NM(RMS)水平。因此本发明为以具有微孔材料为基底的超光滑表面加工提供了行之有效的方法。
成果评价分析
技术应用分析
服务案例
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