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成果概况
简介
一种高额定电流纵向磁场真空灭弧室触头结构,包括:
- 布置于真空灭弧室中的阳极触头系统和阴极触头系统,两者结构相同;
- 阳极触头系统由以下部分组成:
- 导电杆:一端穿过U型铁心的开口处,并与触头片连接;
- U型铁心:用于支撑触头片;
- 触头片:具有以下特征:
- 中部开有两个形状和位置对称的非直线通槽;
- 非直线通槽将触头片分为导流区域和燃弧区域;
- 导流区域位于两个非直线通槽之间;
- 燃弧区域位于两个非直线通槽端部外侧;
- 导流区域和燃弧区域通过导电桥电连接;
- U型铁心设置在触头片的背部,且位于燃弧区域之内;
- 阳极触头系统和阴极触头系统相对布置,且U型铁心的开口方向呈错开180°配置。
本发明结构具有以下优点:
- 能大幅减小触头片中的涡流损耗;
- 降低真空灭弧室的回路电阻;
- 在提高触头间的纵向磁场的同时,增大强纵向磁场区域面积。
一种高额定电流纵向磁场真空灭弧室触头结构,包括布置于真空灭弧室中结构相同的阳极触头系统和阴极触头系统,阳极触头系统包括导电杆、U型铁心和触头片;导电杆一端穿过U型铁心开口处,并与触头片连接;触头片的中部开有两个形状和位置对称的非直线通槽,非直线通槽将触头片分为位于两个非直线通槽间的导流区域和位于两个非直线通槽端部外侧的燃弧区域,导流区域和燃弧区域通过导电桥电连接;U型铁心设置在触头片的背部,且位于燃弧区域之内;阳极触头系统和阴极触头系统相对布置,且U型铁心的开口方向呈错开180°配置;本发明结构能大幅减小触头片中的涡流损耗,降低了真空灭弧室的回路电阻;在提高触头间的纵向磁场的同时增大强纵向磁场区域面积。
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原文)
专利基本信息
| 专利名称 |
一种高额定电流纵向磁场真空灭弧室触头结构 |
| 专利状态 |
- |
专利号(申请号) |
CN201710419825.0 |
| 申请号 |
- |
专利申请日期 |
2017-06-06 |
| 专利授权日期 |
2017-08-25 |
专利权届满日 |
- |
| 专利所属地 |
中国 |
专利类型 |
发明专利 |
| 发明人 |
刘志远;李昊旻;王子寒;耿英三;王建华 |
| 权利人 |
- |
| 专利摘要 |
一种高额定电流纵向磁场真空灭弧室触头结构,包括布置于真空灭弧室中结构相同的阳极触头系统和阴极触头系统,阳极触头系统包括导电杆、U型铁心和触头片;导电杆一端穿过U型铁心开口处,并与触头片连接;触头片的中部开有两个形状和位置对称的非直线通槽,非直线通槽将触头片分为位于两个非直线通槽间的导流区域和位于两个非直线通槽端部外侧的燃弧区域,导流区域和燃弧区域通过导电桥电连接;U型铁心设置在触头片的背部,且位于燃弧区域之内;阳极触头系统和阴极触头系统相对布置,且U型铁心的开口方向呈错开180°配置;本发明结构能大幅减小触头片中的涡流损耗,降低了真空灭弧室的回路电阻;在提高触头间的纵向磁场的同时增大强纵向磁场区域面积。 |